減少非貴金屬樁核冠MR偽影的實驗研究.pdf

1、目的:探討非貴金屬合金樁核冠MR不同序列掃描偽影大小，通過變換不同的掃描參數(shù)探討其對偽影大小的影響，以指導臨床對材料的選擇，確保對口腔內(nèi)有固定金屬物患者行磁共振掃描時能獲得優(yōu)質(zhì)圖像。
　　材料與方法:選用臨床常用的兩種非貴金屬口腔修復材料鈷鉻合金和鎳鉻合金，分別制成左下6標準樁核冠模型做為實驗組，用丙烯酸樹脂制成大小、形狀相同的左下6標準樁核冠模型做為對照組。應用1.5T MR掃描儀，采用頭線圈對水模進行掃描。
　　掃描策略

2、如下：
　　⑴實驗組和對照組均行橫斷面T1WI、T2WI、FLAIR、T2*WI、DWI序列掃描；
　?、品謩e調(diào)整每個序列的成像參數(shù)，對鈷鉻合金模型及鎳鉻合金模型進行掃描。觀察每個序列中偽影面積最大的層面并測量其面積，每個數(shù)據(jù)均測量3次。應用SAS V8軟件對結(jié)果進行統(tǒng)計學分析，以P<0.05為差異有統(tǒng)計學意義。
　　結(jié)果:鈷鉻合金、鎳鉻合金、樹脂對照組在各個序列中產(chǎn)生偽影面積兩兩之間差異均有統(tǒng)計學意義（P<0.000

3、1）。T1WI與FLAIR序列之間偽影大小差異無統(tǒng)計學意義，其分別與 T2WI、T2*WI、DWI序列兩兩之間差異有統(tǒng)計學意義（P<0.0001）。鎳鉻合金偽影較鈷鉻合金偽影受參數(shù)變化影響明顯。TE：在T2*WI序列，增大TE值可以減小兩種金屬偽影（P<0.05）；FOV：在FLAIR及DWI序列，縮小鈷鉻合金FOV可以減小金屬偽影（P<0.05）；BW：在T1WI序列，增大BW，可以減小兩種金屬偽影（P<0.05）；Matrix：在T

4、1WI序列，增大Matrix可以減小兩種金屬偽影（P<0.05），在FLAIR序列，增大Matrix可以減小鎳鉻合金偽影（P<0.05）；Thk：在T2*WI序列，增大Thk可以增大兩種金屬偽影（P<0.05）；ETL值：在T2WI序列，增大ETL可以減小鎳鉻合金偽影，在FLAIR序列，增大ETL可以減小鈷鉻合金偽影（P<0.05）；FA：在FLAIR序列，增大FA可以減小鎳鉻合金偽影（P<0.05）；NEX：在DWI序列，增大NEX可