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文檔簡介
1、在光電技術快速發(fā)展的推動下,光電器件得以迅速發(fā)展,其在光通信系統(tǒng)、成像系統(tǒng)及軍事等領域的應用不斷擴大。特別是近年來半導體材料和器件結構的不斷研究發(fā)展,光電探測器件向著高靈敏度和高性能方向發(fā)展,其工作波長范圍也向紅外、紫外方向發(fā)展,但其發(fā)展仍受制于成本和工藝復雜度等問題,且目前CMOS工藝可兼容的光電探測器普遍存在量子效率偏低、工作帶寬較窄等性能問題。因此,開展高速、高量子效率和波長選擇性探測的CMOS可集成光電探測器(Photodete
2、ctor,PD)的研究,具有很重要的現實意義。
本文提出將F-P諧振微腔引入到SOI CMOS工藝中,構建一種新型的SOI基CMOS兼容的諧振腔增強型(resonant cavity enhanced,RCE)光電探測器結構,并圍繞著RCE光電探測器開展了理論分析、結構設計及優(yōu)化、性能對比和工藝流程設計、版圖繪制等研究工作。主要研究內容如下:
1、在研究和分析常見的RCE光電探測器的工作原理、性能參數以及其結構的優(yōu)劣
3、基礎上,創(chuàng)新性的提出了一種SOI基CMOS可兼容的RCE PD結構,并調整優(yōu)化結構參數,力求改善CMOS RCE PD性能較差的問題。
2、分析PD的光電轉換機理及載流子特性,建立了優(yōu)化的SOI基RCE PD結構。詳細分析器件材料、RCE的DBR反射鏡結構,再數值模擬優(yōu)化諧振腔結構,并結合工藝實現性,最終確定850nm光波長SOI基RCE PD結構。
3、開展了SOI CMOS RCE光電探測器結構的TCAD仿真實現
4、和電學特性模擬。通過設計合理的工藝流程,再運用TCAD仿真軟件進行RCE PD器件的仿真實現和量子效率、響應度等參數的光電特性仿真。對比仿真結果和理論模擬結果,兩者的最大誤差在19%之內,基本驗證了模擬仿真的可靠性及器件結構的可行性。
4、設計多種RCE光電探測器件版圖?;?μmCMOS工藝的SOI基CMOS RCE光電探測器版圖包括基本雙光電、條柵型雙光電、Lateral PIN、空間調制型四類結構,受光面積30μm*30
5、μm、40μm*40μm和50μm*50μm三種,根據器件P+橫向間距、P+寬度、P+/N+橫向間距等尺寸細分畫出不同的器件結構,共330個器件結構。
通過全文的研究及仿真結果驗證了SOI基CMOS RCE光電探測器新結構的正確性,相比于普通CMOS光電探測器,其量子效率提高了50%以上,且工藝流程更加簡單,達到了高性能、低成本、易實現的設計目標。本文系統(tǒng)性分析SOI基CMOS RCE光電探測器的設計流程,為下一步實現SOI基
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