不同鎂合金表面狀況對(duì)金屬鍍層性能影響研究.pdf_第1頁(yè)
已閱讀1頁(yè),還剩66頁(yè)未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

1、隨著對(duì)通信設(shè)備的性能要求的提高,常采用化學(xué)鍍鎳及電鍍銅表面處理技術(shù)對(duì)其進(jìn)行表面改性,使其滿足表面導(dǎo)電、耐蝕等性能。然而實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中,常常發(fā)現(xiàn)鍍件鍍前表面狀況鍍件的成品率有著重大影響。因此,本文在五種不同基底表面包括:微弧氧化膜表面、鈍化膜表面、噴砂表面、打磨表面及氧化表面上進(jìn)行了電鍍銅處理,探究鍍件不同的表面狀況對(duì)鍍層的性能影響。
  本文探討了化學(xué)鍍鎳預(yù)處理工藝,并對(duì)酸洗、活化工藝的多種方案進(jìn)行了簡(jiǎn)要的對(duì)比分析,確立了(C2H

2、4O2+H3PO4)的酸洗工藝,HF(40%)的活化工藝。簡(jiǎn)要研究分析了化學(xué)鍍鎳相關(guān)工藝參數(shù)對(duì)化學(xué)鍍鎳的鍍層形貌、鍍速及孔隙率等的影響,選取較為合理的工藝操作條件作為本文化學(xué)預(yù)鍍鎳工藝。選取環(huán)保的焦磷酸同鹽鍍銅工藝,并利用赫爾槽實(shí)驗(yàn)對(duì)鍍液主鹽濃度、電流密度、pH值等工藝參數(shù)進(jìn)行了優(yōu)選。確立了本實(shí)驗(yàn)較為合理的焦磷酸鹽鍍銅工藝。最后,對(duì)鎳-銅鍍層進(jìn)行了包括表面電阻率、耐蝕性、結(jié)合力、孔隙率、耐沖擊力等性能進(jìn)行檢測(cè)分析,并利用SEM、EDS對(duì)

3、鍍層顯微形貌、成分進(jìn)行了分析表征,從而探討五種基體表面對(duì)其后續(xù)金屬涂層綜合性能的影響。
  本研究表明:①五種基體上鍍層表面電阻分別在4.7mΩ/mm2~6.0mΩ/mm2之間,其中氧化表面上鍍層表面電阻最大為6.0mΩ/mm2。與其他基體表面相比,因氧化表面存在氧化物而使得鍍層結(jié)合力稍差且有少許孔隙;②微弧氧化膜與鈍化膜上鍍層耐蝕性較好,氧化基體表面上鍍層耐蝕最差。在5%NaCl溶液浸泡4小時(shí)后,鍍層全面腐蝕;③噴砂表面因表面粗

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論