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文檔簡介
1、多孔硅基光子器件由于其折射率在制作過程中可通過控制腐蝕條件來改變而具有潛在應(yīng)用價(jià)值。多孔硅梳狀結(jié)構(gòu)具有光滑的折射率分布，可以提高光學(xué)器件的性能，在近紅外范圍內(nèi)的單個(gè)和多個(gè)帶隙的梳狀結(jié)構(gòu)已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于化學(xué)和生物傳感器。
本研究基于電化學(xué)腐蝕硅的機(jī)理，通過電化學(xué)陽極氧化法，在p型單晶硅上制備了近紅外光譜范圍（1μm-3μm）內(nèi)工作的多孔硅光學(xué)梳狀濾波器。為了提高濾波器的發(fā)光質(zhì)量，首先對梳狀多孔硅反射光譜的影響因素進(jìn)行研究，在此基
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