硅外延設(shè)備監(jiān)控系統(tǒng)軟件設(shè)計(jì)與開(kāi)發(fā).pdf

1、IC制造是提升國(guó)民經(jīng)濟(jì)與實(shí)現(xiàn)電子信息現(xiàn)代化的高新產(chǎn)業(yè)之一。IC制造過(guò)程一般需要切片、外延、淀積、光刻、離子注入等多個(gè)工藝制造過(guò)程協(xié)同完成。而硅外延設(shè)備作為IC制造工藝的前端工藝裝備,其設(shè)備生產(chǎn)的產(chǎn)品質(zhì)量直接影響著后續(xù)工藝設(shè)備的產(chǎn)品質(zhì)量,所以對(duì)硅外延工藝過(guò)程進(jìn)行有效監(jiān)控具有著重要的意義。
　　硅外延工藝過(guò)程是一個(gè)需要對(duì)多種氣體(如H2,HCL,SiH4等)進(jìn)行通斷控制,并且在其他輔助設(shè)備的協(xié)同控制下而完成的一個(gè)復(fù)雜的工藝過(guò)程。而在工

2、藝過(guò)程中某一單元設(shè)備的不良參數(shù)處理不及時(shí)將有可能導(dǎo)致硅外延工藝過(guò)程的失敗,影響企業(yè)效益。另一方面,在硅外延工藝過(guò)程中伴隨著易燃、易爆、有毒等危險(xiǎn)氣體的摻雜,如果對(duì)危險(xiǎn)氣體的泄漏不進(jìn)行及時(shí)控制,有可能影響設(shè)備安全與人員的安全,從而造成經(jīng)濟(jì)損失。
　　本文以硅外延設(shè)備為研究對(duì)象,從硅外延設(shè)備的具體需求出發(fā),首先介紹了本文研究的硅外延設(shè)備的功能結(jié)構(gòu)組成,其次分析了硅外延設(shè)備監(jiān)控軟件的整體功能需求與具體的詳細(xì)功能需求。并根據(jù)硅外延設(shè)備監(jiān)控

3、軟件功能的分解,以及從減少模塊間的耦合性、提升軟件的維護(hù)性方面考慮,建立了硅外延設(shè)備監(jiān)控軟件的整體功能模型、模塊間的關(guān)聯(lián)模型、數(shù)據(jù)流模型等,設(shè)計(jì)了組件之間和模塊之間的調(diào)用關(guān)系。最后,從監(jiān)控軟件對(duì)數(shù)據(jù)收集的完整性需求考慮,設(shè)計(jì)了動(dòng)態(tài)的數(shù)據(jù)緩沖隊(duì)列;從硅外延設(shè)備數(shù)據(jù)組織合理性的需求考慮,設(shè)計(jì)了硅外延設(shè)備數(shù)據(jù)的組織結(jié)構(gòu);從硅外延設(shè)備界面信息顯示的實(shí)用性需求考慮,設(shè)計(jì)了基于觀察者模式的界面更新方法,并從軟件的易維護(hù)的考慮出發(fā),對(duì)觀察者模式采用基