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文檔簡介
1、隨著信息傳輸與處理速度的不斷提高,磁電子器件的工作頻率(頻段)也越來越高(寬)。軟磁材料作為這些磁電子器件的核心,必須同時擁有高的共振頻率與磁導(dǎo)率。為了實現(xiàn)這一目的,必須選用高飽和磁化強(qiáng)度的材料且能夠?qū)崿F(xiàn)高頻磁性寬范圍的調(diào)控。本文采用磁控濺射方法,制備了FeCoM(M=Zr,Hf,Nb,Nd,B)薄膜;分別研究了傾斜濺射、外加磁場、摻雜以及電場等方法對薄膜靜態(tài)磁特性及高頻磁性的影響。
本研究主要內(nèi)容包括:⑴利用傾斜濺射和外加直
2、流偏置磁場相結(jié)合的方法,實現(xiàn)了FeCo薄膜高頻磁性較大范圍的調(diào)控。隨著濺射傾斜角的增加,面內(nèi)單軸各向異性場從24Oe增大到426Oe,共振頻率也從2.0GHz增大到7.5GHz,同時起始轉(zhuǎn)動磁導(dǎo)率可在43~737范圍內(nèi)調(diào)控,顯示出良好的高頻特性。⑵通過在FeCo薄膜中摻入Zr、Hf、Nb、Nd和B元素以及改變其摻雜量大大優(yōu)化了 FeCo薄膜的高頻性能。進(jìn)一步改變?yōu)R射的傾斜角,實現(xiàn)了共振頻率(1.4~8.5GHz)和磁導(dǎo)率(30~452)
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