版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡(jiǎn)介
1、低壓化學(xué)氣相沉積(Low Pressure Chemical Vapor Deposition,LPCVD)技術(shù)是薄膜太陽(yáng)能行業(yè)中的核心技術(shù),是生產(chǎn)透明導(dǎo)電氧化物(Transparent Conducting Oxide,TCO)玻璃的主要方法。TCO玻璃是指用物理或化學(xué)的方法在表面均勻沉積一層透明的導(dǎo)電氧化物膜的平板玻璃,主要用作薄膜太陽(yáng)能電池的前基板(電極),它的性能對(duì)于薄膜太陽(yáng)能電池的最終轉(zhuǎn)換率有著相當(dāng)大的影響。TCO玻璃的生產(chǎn)過(guò)
2、程繁瑣,需要多個(gè)設(shè)備協(xié)同工作,在生產(chǎn)完成后需要用氮?dú)馇謇砬惑w并進(jìn)行長(zhǎng)時(shí)間的抽空,降低了設(shè)備的生產(chǎn)效率。在有多臺(tái)設(shè)備進(jìn)行生產(chǎn)的環(huán)境中必然會(huì)出現(xiàn)工藝耗時(shí)較長(zhǎng)的設(shè)備長(zhǎng)期處于滿載,而工藝耗時(shí)較短的設(shè)備長(zhǎng)期空載,如果無(wú)法進(jìn)行合理的調(diào)度必然會(huì)造成設(shè)備資源的浪費(fèi)。設(shè)備多樣且分散也不利于搜集對(duì)比生產(chǎn)數(shù)據(jù)和進(jìn)行設(shè)備管理。設(shè)備控制多是在密閉不透明的腔體內(nèi)進(jìn)行,無(wú)法直觀的看到腔體內(nèi)狀態(tài)的變化,也給操作人員帶來(lái)了許多困擾。這些問(wèn)題逐漸成為了LPCVD設(shè)備發(fā)展的
3、瓶頸。
本文以國(guó)內(nèi)某知名光伏設(shè)備制造商(以下簡(jiǎn)稱E公司)的實(shí)際項(xiàng)目為背景,在分析了LPCVD設(shè)備的生產(chǎn)過(guò)程的基礎(chǔ)上,設(shè)計(jì)并實(shí)現(xiàn)了一種新的LPCVD設(shè)備的控制系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括了圖形界面控制、用戶帳戶管理、錯(cuò)誤校正、工藝配方管理、設(shè)備安全運(yùn)行保護(hù)機(jī)制、設(shè)備實(shí)時(shí)狀態(tài)數(shù)據(jù)管理、非實(shí)時(shí)設(shè)備信息管理等功能模塊,測(cè)試及應(yīng)用情況表明該系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了設(shè)備的精確控制與調(diào)度優(yōu)化,提高了生產(chǎn)效率。
相比同類的其他系統(tǒng),本文的研究工作主要有以下特
4、點(diǎn):
1. LPCVD設(shè)備控制系統(tǒng)選擇Prodave驅(qū)動(dòng)庫(kù)和TCP/IP通訊協(xié)議與西門子的PLC進(jìn)行通訊,采取不斷遍歷PLC的每一個(gè)模塊來(lái)獲取最新的數(shù)據(jù),可以達(dá)到10毫秒就可以遍歷200個(gè)IO點(diǎn),最大限度的保證了系統(tǒng)的實(shí)時(shí)性。
2. LPCVD設(shè)備控制系統(tǒng)通過(guò)采用C/S架構(gòu)和WCF技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)多客戶端同時(shí)訪問(wèn)LPCVD設(shè)備,從而使得當(dāng)一個(gè)操作員在一臺(tái)電腦上進(jìn)行操作時(shí),另一臺(tái)電腦也可以查看工藝數(shù)據(jù)與機(jī)臺(tái)運(yùn)行狀態(tài),避免了排
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 低壓化學(xué)氣相沉積模型與模擬.pdf
- 化學(xué)氣相沉積設(shè)備尾氣過(guò)濾系統(tǒng)的研究與分析.pdf
- 石墨烯的低壓化學(xué)氣相沉積法制備研究.pdf
- 金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積設(shè)備加熱系統(tǒng)研究與設(shè)計(jì).pdf
- 光纖預(yù)制棒氣相沉積機(jī)床控制系統(tǒng)的研制.pdf
- 摻雜納米多晶Si膜的低壓化學(xué)氣相沉積與電學(xué)特性研究.pdf
- PCVD等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備研制.pdf
- PVCD等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備的研究.pdf
- 鎳薄膜的化學(xué)氣相沉積.pdf
- 制氣工段智能控制系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn).pdf
- 化學(xué)氣相沉積發(fā)展應(yīng)用剖析
- 碳納米管的低壓化學(xué)氣相沉積法制備及其應(yīng)用研究.pdf
- 煤造氣集成控制系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn).pdf
- 智能家居的設(shè)備控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn).pdf
- 碳納米管化學(xué)氣相沉積爐的優(yōu)化設(shè)計(jì)與仿真.pdf
- 基于ARM的噴繪設(shè)備控制系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn).pdf
- 半導(dǎo)體設(shè)備控制系統(tǒng)的優(yōu)化設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn).pdf
- 磁激活等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備的研制.pdf
- 低壓無(wú)功補(bǔ)償控制系統(tǒng)的研究與設(shè)計(jì).pdf
- 溫等靜壓設(shè)備控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn).pdf
評(píng)論
0/150
提交評(píng)論