4H-SiC輻照損傷分子動力學模擬初步研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、核技術的成敗取決于材料在反應堆強輻射場下的行為。作為核聚變堆候選材料,SiCf/SiC(SiC連續(xù)纖維增強SiC陶瓷基復合材料)已逐漸被先進核能系統(tǒng)接受,其抗輻照性能也正被廣泛研究。本文主要目的是采用分子動力學方法研究單晶SiC的輻照行為,目的是為SiCf/SiC復合材料提供基礎數(shù)據(jù)支持和理論參考。
  本文使用基于分子動力學方法的LAMMPS軟件,建立4H-SiC單晶塊體的分子動力學模型,在原子尺度上對密排六方結構4H-SiC的

2、輻照級聯(lián)碰撞過程進行計算模擬,研究輻照級聯(lián)中微觀結構演變過程,探索輻照條件對各種點缺陷的影響規(guī)律。本文采用能量為10keV的Si初始離位原子作為入射粒子,輻照級聯(lián)模擬結果與文獻模擬結果吻合。此外,本文中也研究了一些可能影響輻照級聯(lián)的相關參數(shù),如時間步長、輻照溫度、PKA原子入射能量和入射方向并得到了相關結論。
  基于上述4H-SiC單晶塊體模型,本文研究了輻照對4H-SiC單晶塊體模型力學性能的影響。結果表明不同拉伸方向上均可以

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