2023年全國(guó)碩士研究生考試考研英語(yǔ)一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁(yè)
已閱讀1頁(yè),還剩79頁(yè)未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶(hù)提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

1、聚酰亞胺(PI)具有十分優(yōu)異的力學(xué)性能和化學(xué)穩(wěn)定性,熱學(xué)、光學(xué)性能良好,在航天,航空,精細(xì)化工,微電子,精密光學(xué)等領(lǐng)域具有十分廣泛的應(yīng)用背景和不可替代性。由于低地球軌道空間中存在對(duì)航天器造成嚴(yán)重威脅的原子氧(AO)以及太空多變復(fù)雜的等離子體環(huán)境對(duì)飛行器表面的充放電效應(yīng),對(duì)聚酰亞胺采取抗AO及防靜電等措施是十分必要的。
  本文通過(guò)硅烷化改性和離子交換法,以六甲基二硅氮烷(HMDS)、bis、三氯甲基硅烷(MTS)、SiCl4、Sn

2、Cl4、AlCl3·6H2O、Zn(NO3)2·6H2O等制備抗AO表面改性聚酰亞胺,并對(duì)其光學(xué)性能、元素組成、表面形貌、化學(xué)結(jié)構(gòu)、AO侵蝕作用影響等進(jìn)行了研究。在抗AO改性聚酰亞胺基礎(chǔ)上沉積了ITO涂層,研究了ITO/抗 AO表面改性聚酰亞胺的光學(xué)性能、表面形貌、電學(xué)性能、ITO涂層與基底結(jié)合情況及AO侵蝕效應(yīng)影響。
  研究結(jié)果表明,同HMDS光活化改性聚酰亞胺、b is1光活化改性聚酰亞胺、bis1濕化學(xué)法改性聚酰亞胺、bi

3、s2光活化改性聚酰亞胺、Al2O3/聚酰亞胺、ZnO/聚酰亞胺、SnO2/聚酰亞胺相比,MTS改性聚酰亞胺與SiCl4改性聚酰亞胺經(jīng) AO輻照后單位面積質(zhì)量損失最小,光學(xué)透過(guò)率下降亦最小,表面形貌未受明顯剝蝕,原始聚酰亞胺單位面積質(zhì)量損失分別為 MTS改性聚酰亞胺與SiCl4改性聚酰亞胺的26.7倍和24.9倍。SiCl4改性聚酰亞胺的表面存在大量裂紋,MTS改性聚酰亞胺未見(jiàn)裂紋,所以MTS改性聚酰亞胺具有最為優(yōu)異的抗AO綜合性能。

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶(hù)所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶(hù)上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶(hù)上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶(hù)因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論