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![有機(jī)半導(dǎo)體MOS器件性質(zhì)與模型的研究.pdf_第1頁(yè)](https://static.zsdocx.com/FlexPaper/FileRoot/2019-3/14/18/28975cc5-f875-4b3e-bd7d-e27b8ef2689d/28975cc5-f875-4b3e-bd7d-e27b8ef2689d1.gif)
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1、近幾十年來(lái),有機(jī)電子器件依其制備工藝簡(jiǎn)單、造價(jià)低廉、有望實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)、可與柔性襯底兼容等優(yōu)點(diǎn),極大的豐富了人們的視野,引起了產(chǎn)業(yè)界人士和科學(xué)家的高度關(guān)注,但有機(jī)半導(dǎo)體物理性質(zhì)不論在理論上還是在實(shí)驗(yàn)上都面臨著新的挑戰(zhàn),因此有機(jī)半導(dǎo)體性質(zhì)研究是一份十分必要的工作,它有利于推動(dòng)有機(jī)電子器件的快速發(fā)展。本論文通過(guò)對(duì)有機(jī)半導(dǎo)體MOS(MOOS)原理的研究,建立了有機(jī)MOSC-V數(shù)學(xué)模型,并利用CuPc、VOPc、C60三種有機(jī)半導(dǎo)體材料,采用真
2、空蒸鍍的方法,通過(guò)優(yōu)化成膜時(shí)襯底溫度、沉積速率等條件,制備出了性能優(yōu)異的單層有機(jī)半導(dǎo)體MOS和雙層異質(zhì)結(jié)有機(jī)半導(dǎo)體MOS器件。利用C-V結(jié)電容法,提取了制備的MOS器件的絕緣層厚度、最大耗盡層寬度、摻雜濃度、界面陷阱密度、界面態(tài)密度等參數(shù),發(fā)現(xiàn)滯后效應(yīng)、摻雜濃度受頻率的影響很小,但高頻對(duì)C-V曲線(xiàn)的影響非常明顯。最后利用所提取的參數(shù)和理論模型模擬了有機(jī)MOS器件的C-V特性曲線(xiàn),模擬曲線(xiàn)與實(shí)測(cè)曲線(xiàn)誤差較小,證明了提取的參數(shù)和模型的準(zhǔn)確性
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