圖案化液晶配向?qū)拥能浛涛g制備及應用研究.pdf

1、近年來，隨著光通信、液晶顯示以及光電子集成電路的發(fā)展，人們對液晶的研究日益重視，各種新型的液晶器件層出不窮。其中，液晶光柵作為一種重要的光學器件，以其質(zhì)量輕、集成度高、低功耗等特性已被廣泛應用于防偽、光波導、波束控制以及3D顯示等各個領域。
　　液晶光柵的制備方法很多，以利用圖案化配向?qū)涌刂埔壕帕械姆椒ㄗ钣写硇浴Ｔ摲椒▽D案化技術與液晶配向技術相結合，通過對配向?qū)舆M行不同的處理來控制表面液晶的周期性排列，進而獲得液晶的混合構型

2、與多疇結構。它不受液晶材料的限制，實現(xiàn)方式多樣，可以制備各種高精度的液晶光柵。
　　另一方面，軟刻蝕作為一種新型的快速成型方法，能夠為圖案化液晶配向?qū)拥闹苽涮峁┮环N全新的途徑。它不僅能夠勝任各種液晶配向?qū)硬牧系膱D案化，而且能夠有效地控制配向?qū)颖砻娴幕瘜W特性，這對液晶配向來說有著巨大的優(yōu)勢。此外，與其他液晶配向?qū)訄D案化的方式相比，它能夠在各種曲面或者柔性材料的表面快速地得到其他方式難以獲得的具有復雜結構的配向?qū)?，因此具有很大的研究價

3、值。
　　本論文的研究課題就是利用改進的MIMIC技術制備具有浮雕結構的PVA液晶配向?qū)?，進而與液晶摻雜POSS納米粒子誘導垂直配向的技術相結合制備液晶光柵。文中詳細介紹了液晶電光測試系統(tǒng)的框架構建以及各個模塊的具體實現(xiàn)，對制備圖案化PVA液晶配向?qū)舆M而獲得液晶光柵的各個工藝流程進行了討論，并通過理論仿真的方式對液晶光柵性能進行分析。實驗結果表明，該方法能夠有效地在基板上的特定區(qū)域內(nèi)獲得圖案化PVA配向?qū)?，進而得到具有垂直配向與混