噴射電沉積制備多層膜裝置設(shè)計及試驗研究.pdf

1、噴射電沉積是電化學(xué)沉積的方式之一，其具有結(jié)晶細(xì)致、選擇性沉積、極限電流密度大以及沉積效率高等諸多優(yōu)點，合理控制電流密度及沉積時間從理論上即可制備出納米多層膜。結(jié)合噴射電沉積技術(shù)，本文成功地設(shè)計出能制備調(diào)制波長為十幾到幾百納米的多層膜（理論上可以達(dá)到幾納米）的試驗裝置，且在大量工藝試驗基礎(chǔ)之上對 Cu/Co多層膜的部分性能進(jìn)行了研究。
　　完成的主要工作及研究內(nèi)容如下：
　　（1）設(shè)計并構(gòu)建了制備Cu/Co多層膜的試驗裝置，完

2、成了運動及控制系統(tǒng)的設(shè)計，解決了兩種電鍍液交叉污染以及電鍍液溫度范圍的精確控制等問題，能精確、平穩(wěn)地控制平動速度、電鍍液的入口流量以保證沉積層厚度均勻、可控，采用該裝置成功地制備出調(diào)制波長可控的Cu/Co多層膜；
　　（2）采用Fluent軟件對不同距離和噴嘴入口流速（流量）下噴嘴的流場進(jìn)行了仿真，發(fā)現(xiàn)低速區(qū)的寬度隨距離的增加而增大，隨流量增加呈先增后減趨勢（Q=194L/h時，低速區(qū)寬度最小），仿真結(jié)果很好地反映了沉積中的實際情