噴射電沉積納米晶鎳和鎳-鉻復(fù)合沉積層的制備及其腐蝕行為研究.pdf

1、利用噴射電沉積技術(shù),分別使用直流和脈沖電流制備了納米鎳沉積層。采用TEM測(cè)試技術(shù)對(duì)沉積層的顯微結(jié)構(gòu)進(jìn)行了表征;利用動(dòng)電位極化曲線、電化學(xué)阻抗譜、Mott-Schottky曲線和零電荷電位(PZFC)測(cè)試技術(shù)研究了電流類(lèi)型對(duì)沉積層的耐蝕性能、表面鈍化膜的半導(dǎo)體性和氯離子吸附性的影響。結(jié)果表明:與直流電流相比,脈沖電流具有細(xì)化晶粒和促進(jìn)孿晶結(jié)構(gòu)形成的作用,不會(huì)改變沉積層表面鈍化膜的半導(dǎo)體類(lèi)型(p型半導(dǎo)體),但會(huì)降低表面鈍化膜中的載流子密度和

2、點(diǎn)缺陷擴(kuò)散系數(shù),使表面更難吸附氯離子,鈍化膜更加完整致密,從而提高了鎳沉積層的耐蝕性能。
　　通過(guò)向鍍液中加入光亮劑(糖精和1,4丁炔二醇)制備了超細(xì)納米晶鎳沉積層,采用SEM、TEM和電化學(xué)測(cè)試技術(shù)分別對(duì)沉積層的表面形貌、顯微結(jié)構(gòu)和腐蝕性能進(jìn)行了研究。結(jié)果表明:沉積層表面致密平整,平均晶粒尺寸僅為10nm,組織中無(wú)孿晶結(jié)構(gòu),與無(wú)光亮劑鍍液中獲得的試樣(平均晶粒尺寸為80nm,組織中有孿晶結(jié)構(gòu))相比,晶粒細(xì)化顯著降低了沉積層的耐蝕

3、性能。為了探究產(chǎn)生這種反?！俺叽缧?yīng)”的原因,將從不含光亮劑鍍液中制備的納米晶鎳沉積層進(jìn)行系列等溫退火處理,獲得不同晶粒尺寸和顯微結(jié)構(gòu)的試樣,研究其耐蝕性能。結(jié)果表明:晶粒細(xì)化對(duì)沉積層腐蝕性能的影響遠(yuǎn)小于孿晶結(jié)構(gòu)的影響,孿晶密度越高,沉積層的耐蝕性能越好,揭示了孿晶結(jié)構(gòu)是影響沉積層耐蝕性能的主要因素。
　　在電沉積溶液中添加納米鉻顆粒,使用脈沖噴射電沉積技術(shù)制備出納米晶鎳-鉻復(fù)合沉積層,采用SEM、TEM和電化學(xué)測(cè)試技術(shù)分別研究了