噴射電沉積納米晶鎳和鎳-鉻復合沉積層的制備及其腐蝕行為研究.pdf

1、利用噴射電沉積技術(shù),分別使用直流和脈沖電流制備了納米鎳沉積層。采用TEM測試技術(shù)對沉積層的顯微結(jié)構(gòu)進行了表征;利用動電位極化曲線、電化學阻抗譜、Mott-Schottky曲線和零電荷電位(PZFC)測試技術(shù)研究了電流類型對沉積層的耐蝕性能、表面鈍化膜的半導體性和氯離子吸附性的影響。結(jié)果表明:與直流電流相比,脈沖電流具有細化晶粒和促進孿晶結(jié)構(gòu)形成的作用,不會改變沉積層表面鈍化膜的半導體類型(p型半導體),但會降低表面鈍化膜中的載流子密度和

2、點缺陷擴散系數(shù),使表面更難吸附氯離子,鈍化膜更加完整致密,從而提高了鎳沉積層的耐蝕性能。
　　通過向鍍液中加入光亮劑(糖精和1,4丁炔二醇)制備了超細納米晶鎳沉積層,采用SEM、TEM和電化學測試技術(shù)分別對沉積層的表面形貌、顯微結(jié)構(gòu)和腐蝕性能進行了研究。結(jié)果表明:沉積層表面致密平整,平均晶粒尺寸僅為10nm,組織中無孿晶結(jié)構(gòu),與無光亮劑鍍液中獲得的試樣(平均晶粒尺寸為80nm,組織中有孿晶結(jié)構(gòu))相比,晶粒細化顯著降低了沉積層的耐蝕

3、性能。為了探究產(chǎn)生這種反常“尺寸效應(yīng)”的原因,將從不含光亮劑鍍液中制備的納米晶鎳沉積層進行系列等溫退火處理,獲得不同晶粒尺寸和顯微結(jié)構(gòu)的試樣,研究其耐蝕性能。結(jié)果表明:晶粒細化對沉積層腐蝕性能的影響遠小于孿晶結(jié)構(gòu)的影響,孿晶密度越高,沉積層的耐蝕性能越好,揭示了孿晶結(jié)構(gòu)是影響沉積層耐蝕性能的主要因素。
　　在電沉積溶液中添加納米鉻顆粒,使用脈沖噴射電沉積技術(shù)制備出納米晶鎳-鉻復合沉積層,采用SEM、TEM和電化學測試技術(shù)分別研究了