鎳-鉻納米復(fù)合電沉積層的制備及其腐蝕行為的研究.pdf

1、Ni-Cr納米復(fù)合鍍層是一種具有很大應(yīng)用前景的耐蝕性鍍層，決定該復(fù)合鍍層耐蝕性能的一個(gè)關(guān)鍵因素是鍍層中納米Cr的含量，如何提高鍍層中納米Cr的含量是當(dāng)前研究的熱點(diǎn)。本文通過表面分散劑的改性、傳統(tǒng)電沉積法、沉降電沉積法制備Ni-Cr納米復(fù)合鍍層，對(duì)鍍層性能進(jìn)行研究得出以下結(jié)論：
　　分別利用陰離子表面分散劑(SDS)、陽(yáng)離子表面分散劑(CTAB)、天然高分子表面分散劑(Arabic Gum)三種表面分散劑對(duì)納米Cr粒子進(jìn)行預(yù)處理，研

2、究其Zeta電位變化規(guī)律、沉降規(guī)律以及電鍍后鍍層中納米粒子含量的變化(EDS分析)，發(fā)現(xiàn)阿拉伯膠(Arabic Gum)的添加能夠顯著提高納米粒子在水中的Zeta電位，使其懸浮穩(wěn)定性明顯提高，從而在進(jìn)行沉降實(shí)驗(yàn)時(shí)可以保持最長(zhǎng)時(shí)間懸浮，電鍍后鍍層中能夠獲得最高的納米Cr的含量。
　　相對(duì)于傳統(tǒng)電沉積(CEP)，采用沉降電沉積法(SCD)在鍍液中納米Cr含量較低的情況下，就可獲得納米 Cr含量高的鍍層。通過優(yōu)化電鍍工藝參數(shù)獲得最佳工藝

3、參數(shù)鍍液中納米Cr的濃度為：20g/L，電流密度3A/dm2，攪拌速度為170rpm，pH為5.5。在鍍層中納米粒子 Cr含量相近的情況下，利用沉降電沉積法制備的鍍層更為致密、平整、耐蝕性明顯提高。.
　　采用電化學(xué)測(cè)試、SEM等測(cè)試技術(shù)研究了Cr粒子的尺寸和在鍍層中的含量對(duì)鍍層表面形貌和耐蝕性能的影響，發(fā)現(xiàn)隨著復(fù)合鍍層Cr粒子尺寸的減小，鍍層耐蝕性顯著提高，隨著鍍層中Cr粒子含量的增加Ni-Cr復(fù)合鍍層的表面越平整致密，耐蝕性能