超短激光脈沖微構(gòu)造硅表面.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、在一定氣體氛圍下,用超短激光脈沖照射硅片表面,在硅表面產(chǎn)生準(zhǔn)規(guī)則排列的微米量級錐形尖峰結(jié)構(gòu)。經(jīng)過表面微構(gòu)造的硅材料,光吸收效率顯著提高,尤其在紅外波段。對這一現(xiàn)象的研究,不僅是研究光與物質(zhì)作用的基本課題,也具有潛在的應(yīng)用價值。我們建立了超短激光脈沖微構(gòu)造硅表面的實(shí)驗(yàn)裝置,對硅表面微結(jié)構(gòu)的形成及其光吸收性質(zhì)進(jìn)行了系統(tǒng)的研究。 研究了激光參數(shù)和氣體條件對表面微結(jié)構(gòu)的影響。結(jié)果表明,背景氣體和激光通量對表面微觀結(jié)構(gòu)的形成起著決定性的作

2、用。只有在SF6氣體氛圍下,才能形成尖銳的錐形尖峰結(jié)構(gòu)。尖峰的高度和間距隨著激光通量的增加而增大。 利用皮秒激光脈沖,也可在硅表面構(gòu)造出尖峰結(jié)構(gòu)。但不同脈沖寬度的激光與硅表面相互作用的物理機(jī)制并不相同,研究了在SF6氣體氛圍下,皮秒和飛秒激光脈沖作用下硅表面微結(jié)構(gòu)的演化過程,在皮秒激光脈沖作用下,尖峰結(jié)構(gòu)形成之前硅片表面先熔化;而飛秒激光脈沖作用下尖峰的演化過程中始終沒有出現(xiàn)液相,表明激光脈沖寬度在表面微構(gòu)造的形成起著相當(dāng)重要的

3、作用。 硅表面尖峰結(jié)構(gòu)的形貌與入射激光的偏振方向密切相關(guān)。當(dāng)用圓偏振激光照射,形成的是對稱的錐形尖峰結(jié)構(gòu);線偏振光形成的尖峰形狀是扁錐形,且扁錐的長軸總是垂直于入射激光的偏振方向。應(yīng)用Fresnel—refraction理論定性解釋了這種非對稱尖峰結(jié)構(gòu)的形成機(jī)理。 二次離子質(zhì)譜(SlMS)和透射電子顯微鏡(TEM)對SF6氛圍下制備的表面微構(gòu)造硅的成份與結(jié)構(gòu)測定的結(jié)果表明:微構(gòu)造的硅材料表面含有大量的S和F元素,結(jié)構(gòu)上為

4、含有大量缺陷的晶體。同時表明表面微構(gòu)造硅材料的形成是激光輔助化學(xué)刻蝕的過程。 我們研究了不同激光通量,SF6和N2氛圍條件下制備的表面微結(jié)構(gòu)硅材料的光吸收性質(zhì),結(jié)果表明表面微構(gòu)造硅材料在0.3—16.7微米波長范圍內(nèi)的光吸收率顯著提高。SF6氛圍下制備的表面微結(jié)構(gòu)硅材料的光吸收率在整個測量波段范圍內(nèi)可保持在80%以上;N2氛圍下制備的表面微結(jié)構(gòu)硅材料在0.3—1.1微米和9—14微米波段的光吸收率可保持在80%以上,但在2—7微

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