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文檔簡介
1、利用飛秒激光在一定氣體環(huán)境下微構(gòu)造硅表面可在硅表面形成微米量級的準(zhǔn)規(guī)則排列尖峰結(jié)構(gòu)。本文研究了表面微構(gòu)造硅材料的紅外光吸收性質(zhì)及以表面微構(gòu)造硅的基底上表面增強(qiáng)喇曼散射(SERS)。在六氟化硫中刻蝕的硅片,光吸收率在整個(gè)測量波段都在80％以上,沒有明顯的周期起伏,存氮?dú)庵锌涛g的硅片,光吸收率在可見波段超過95％,在部分紅外波段(8.8-13.3μm)為75％以上,在2-7μm下降到30％。進(jìn)一步實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn),光吸收率和硅表面的尖峰高度及密度有
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