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1、光柵刻劃?rùn)C(jī)被譽(yù)為精密機(jī)械之王,是當(dāng)今世界最精密的制造設(shè)備之一。高精度光柵刻劃?rùn)C(jī)刻線密集并且刻劃精度要求極高,通常每毫米上能刻劃上千道線,刻劃誤差小于1/10光柵常數(shù)。這對(duì)光柵刻劃?rùn)C(jī)系統(tǒng)設(shè)計(jì)提出了較高要求,數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)是光柵刻劃?rùn)C(jī)控制系統(tǒng)的數(shù)據(jù)源,其對(duì)系統(tǒng)刻劃精度的影響不言而喻。由于采集系統(tǒng)均勻采樣受到限制,實(shí)際的采樣系統(tǒng)是非均勻采樣系統(tǒng),這給光柵刻劃?rùn)C(jī)數(shù)據(jù)分析帶來(lái)了影響。本文從光柵刻劃?rùn)C(jī)數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)入手,闡述了光柵刻劃?rùn)C(jī)非均勻采樣的原因
2、及其對(duì)系統(tǒng)的影響。圍繞著非均勻采樣問(wèn)題,本文從理論推導(dǎo)出發(fā),通過(guò)仿真驗(yàn)證,確定了對(duì)光柵刻劃?rùn)C(jī)使用時(shí)域插值法、非均勻離散傅里葉變換進(jìn)行頻譜分析的有效性。并基于此方法制定了一套實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)處理流程,進(jìn)一步對(duì)實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)進(jìn)行分析,得出了一些具有指導(dǎo)意義的結(jié)論。
在現(xiàn)代工業(yè)系統(tǒng)中,非均勻采樣系統(tǒng)是普遍存在的系統(tǒng)。在采樣過(guò)程中,由于受到電子器件、操作系統(tǒng)等的限制,對(duì)系統(tǒng)變量的采樣呈現(xiàn)非均勻狀態(tài),從而導(dǎo)致非均勻采樣系統(tǒng)的產(chǎn)生;另外,在實(shí)際應(yīng)用
3、中,一些不可在線測(cè)量的變量,通常要經(jīng)過(guò)實(shí)驗(yàn)室分析才能得到,這些變量測(cè)量值的獲得在時(shí)間上也會(huì)呈現(xiàn)非均勻性。根據(jù)采樣理論,非均勻采樣具有不受采樣頻率限制、頻率分辨率高以及抗混疊等優(yōu)點(diǎn),使得其應(yīng)用非常廣泛。但同時(shí),非均勻采樣會(huì)引起頻譜噪聲,使得信號(hào)中幅度小的頻率成分不易檢出。本文討論了針對(duì)非均勻采樣信號(hào)的頻譜分析方法,利用MATLAB工具編程實(shí)現(xiàn)對(duì)非均勻采樣信號(hào)的非均勻離散傅里葉變換,并結(jié)合光柵刻劃?rùn)C(jī)的相關(guān)實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù),得到更加準(zhǔn)確、符合實(shí)際的處
4、理結(jié)果。
對(duì)于非均勻采樣控制系統(tǒng)而言,良好的控制系統(tǒng)軟件框架對(duì)提高系統(tǒng)效率,減小漏采、輸出滯后起到重要作用。針對(duì)光柵刻劃?rùn)C(jī)采樣系統(tǒng)的硬件結(jié)構(gòu)特點(diǎn),本文提出了單線程簡(jiǎn)單軟件處理框架和多線程復(fù)雜處理框架。單線程簡(jiǎn)單處理框架主要用于PID等簡(jiǎn)單算法處理;多線程復(fù)雜框架主要用于模糊神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)、單神經(jīng)元等算法。在多線程處理框架中,優(yōu)先級(jí)較低的線程來(lái)完成參數(shù)更新,高優(yōu)先級(jí)線程進(jìn)行簡(jiǎn)單實(shí)時(shí)計(jì)算,如此便解決了復(fù)雜算法更新參數(shù)算法消耗時(shí)間過(guò)長(zhǎng)
5、,造成控制器輸出滯后的問(wèn)題。此外,在刻劃的不同階段,根據(jù)分度系統(tǒng)的運(yùn)動(dòng)特點(diǎn)很容易實(shí)現(xiàn)兩個(gè)框架之間不同算法的動(dòng)態(tài)切換。
環(huán)境干擾、固有頻率往往是影響光柵刻劃?rùn)C(jī)刻劃精度的重要因素。本文中我們通過(guò)對(duì)實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)分析找出噪聲源,削弱固有頻率干擾,為重新的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)提供可靠的實(shí)驗(yàn)依據(jù)。本文從光柵刻劃?rùn)C(jī)運(yùn)行特點(diǎn)出發(fā),根據(jù)運(yùn)行環(huán)境需求,分別設(shè)計(jì)了不同組別的對(duì)比實(shí)驗(yàn),分別進(jìn)行了分度系統(tǒng)振動(dòng)測(cè)試、壓電陶瓷固有頻率測(cè)試、內(nèi)外臺(tái)固有頻率測(cè)試等實(shí)驗(yàn),并
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