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文檔簡介
1、紫外探測有許多的應用領域,如火焰探測,導彈羽煙追蹤,天際紫外通信等。AlGaN是直接帶隙半導體,其禁帶寬度在3.4eV至6.2eV間可調(diào),對應吸收波長為365nm至200nm,覆蓋了整個日盲波段,是制作紫外探測器的優(yōu)良材料。本文從AlGaN基紫外探測器的結構設計,外延材料生長,器件制備及測試分析等方面展開了研究。
為了實現(xiàn)真正的日盲探測,本征吸收區(qū)AlGaN材料的Al組分應大于0.46,其厚度為300nm可以獲得較高的光吸收量
2、子效率和較快的響應時間。在此基礎上,設計了PIN和MSM兩種類型的紫外探測器材料結構。
為了在藍寶石襯底上外延高Al組分的AlGaN材料,本文采用低溫/高溫AlN生長法,獲得了較高質(zhì)量的AlN模板層,其X射線ω(002)衍射半寬為74弧秒,表面粗糙度為0.33nm。其后,通過優(yōu)化外延時的生長壓力,溫度,Ⅴ/Ⅲ比等工藝條件,改善了高Al組分AlGaN層的晶體質(zhì)量,Al0.46GaN材料X射線ω(002)衍射半寬為223弧秒,ω(
3、102)衍射半寬為783弧秒,表面較為光滑,在278nm處有陡峭的吸收截止邊。同時試驗發(fā)現(xiàn),P型GaN優(yōu)化的退火溫度為750度,空穴濃度為3.1×1017cm-3。
在PIN器件制備中,以ICP二次刻蝕法獲得了平滑的AlGaN刻蝕表面,優(yōu)化了N型AlGaN和P型GaN歐姆接觸的表面處理及退火工藝,試驗得到的N型和P型比接觸電阻率均達到10-4Ωcm2量級。在MSM器件工藝中,以退火工藝減小了器件的漏電流。器件制備完成后,進行了
4、I-V及光譜響應特性測試。其中,對于PIN型探測器,在本征層Al組分分別為0.46和0.5時,器件截止波長分別為280nm和272nm,峰值響應度分別為272nm處0.125A/W以及262nm處0.121A/W,外量子效率均達到57%,歸一化后的峰值探測率在5×1013cmHz1/2W-1量級。對于MSM紫外探測器,其表面吸收層Al組分為0.35,截止波長為304nm,峰值波長位于290nm處,并在測試中觀察了光增益現(xiàn)象,分析認為這主
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