微弧氧化技術替代電鍍硬鉻應用研究.pdf

1、本文利用自行研制的微弧氧化電源設備,研究了微弧氧化膜層的生長過程,分析了電解質溶液電導率和電流密度對微弧氧化膜層生長過程的影響,制取了厚度為250μm以上的微弧氧化膜層。結果表明,提高溶液電導率能降低微弧氧化膜層粗糙度,提高膜層生長速率,電流密度與膜層生長速率成線性關系,提高電流密度能提高膜層生長速度。本文研究了微弧氧化的工藝參數(shù)對微弧氧化膜層的磨損行為的影響。表面粗糙度越低,磨損性能越好;厚度高的膜層在保證其光潔度的條件下耐磨性能較好

2、。電流密度、脈沖頻率和波形對膜層磨損行為有影響。降低電流密度能提高膜層磨損性能;脈沖頻率對膜層磨損行為的影響不是簡單的線性關系,本文結果表明,頻率為500Hz時磨損性能最好;三角波制取的膜層耐磨性能優(yōu)于矩形波制取的膜層。對比了微弧氧化膜層和電鍍硬鉻膜層的磨損行為,結果表明微弧氧化膜層的耐磨性優(yōu)于電鍍硬鉻膜層,為微弧氧化工藝替代電鍍硬鉻工藝理論依據(jù)與技術保證。利用掃描電鏡、金相顯微鏡和X射線衍射觀察研究了微弧氧化膜層的表面及橫截面微觀形貌