CCD逆流洗滌過程計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)與開發(fā).pdf

1、在現(xiàn)代冶金工業(yè)中，采用濕法冶金工藝所得到的懸浮液中包括礦石浸出后的殘?jiān)徒鲆?。殘?jiān)ǔＷ鳛閺U棄物排出。排出前，通常利用沉降槽或濃密機(jī)采用連續(xù)逆流洗滌的工藝對(duì)殘?jiān)M(jìn)行洗滌，以達(dá)到洗凈殘?jiān)械挠杏梦镔|(zhì)的目的，使有價(jià)值物質(zhì)回收最大化。CCD逆流洗滌過程通常由多臺(tái)洗滌設(shè)備串聯(lián)構(gòu)成，待洗殘?jiān)尤氲谝慌_(tái)洗滌設(shè)備，而洗水由最后一臺(tái)設(shè)備加入，前一臺(tái)設(shè)備的底流作為后一臺(tái)設(shè)備的進(jìn)料，同時(shí)后一臺(tái)設(shè)備的溢流作為前一臺(tái)設(shè)備的洗水，這樣依次下去，最后一臺(tái)設(shè)備的底

2、流為洗凈后的殘?jiān)?，第一臺(tái)設(shè)備的溢流中含有浸出液，進(jìn)行后續(xù)處理。
　　對(duì)連續(xù)逆流洗滌流程的合理設(shè)計(jì)與控制能夠有效地提高生產(chǎn)效率。本文中CCD逆流洗滌過程的控制量為濃密機(jī)底流泵頻率、絮凝劑泵頻率，而被控量為濃密機(jī)底流濃度、泥層界面高度、泥層靜壓力，這就涉及到兩個(gè)控制量控制三個(gè)被控量的難題，同時(shí)三個(gè)被控量之間耦合嚴(yán)重，且進(jìn)料擾動(dòng)頻繁。因此，采用先進(jìn)的控制技術(shù)實(shí)現(xiàn)其自動(dòng)控制具有重要意義。本文以某大型鎳鈷冶煉項(xiàng)目為背景，進(jìn)行了CCD逆流洗滌

3、過程控制策略的研究以及計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與開發(fā)并進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)研究和功能測(cè)試。本文主要內(nèi)容歸納如下:
　　(1)對(duì)CCD逆流洗滌過程進(jìn)行了詳細(xì)描述，給出了過程控制目標(biāo)，分析了影響洗滌效果的因素以及控制難點(diǎn)，在此基礎(chǔ)上研究了CCD逆流洗滌過程的控制策略，包括溢流槽液位控制、濃密機(jī)過程控制及設(shè)備連鎖邏輯控制。提出了由PI控制器、協(xié)調(diào)控制、解耦控制以及擾動(dòng)前饋補(bǔ)償相結(jié)合的CCD逆流洗滌過程控制策略，并對(duì)控制器參數(shù)進(jìn)行了整定。
　　(

4、2)結(jié)合CCD逆流洗滌過程的特點(diǎn)和控制要求，提出了包括過程控制層與過程監(jiān)控層的CCD逆流洗滌過程計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)體系結(jié)構(gòu)，進(jìn)行了系統(tǒng)的功能設(shè)計(jì)與平臺(tái)設(shè)計(jì)，在此基礎(chǔ)上開發(fā)了CCD逆流洗滌生產(chǎn)過程計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)。
　　(3)對(duì)開發(fā)的CCD逆流洗滌過程計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)進(jìn)行了對(duì)象特性實(shí)驗(yàn)，證明所搭建對(duì)象能反應(yīng)實(shí)際生產(chǎn)過程，在此基礎(chǔ)上進(jìn)行了設(shè)定值跟蹤實(shí)驗(yàn)以及擾動(dòng)抑制實(shí)驗(yàn)，實(shí)驗(yàn)結(jié)果驗(yàn)證了所提控制策略的有效性，最后進(jìn)行了計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)功能測(cè)試，結(jié)果