納米位移測量中的干涉條紋技術(shù)研究.pdf

1、納米技術(shù)的研究已經(jīng)成為社會發(fā)展的必然趨勢，而納米測量技術(shù)在納米技術(shù)中又占據(jù)了極其重要的位置，所以說納米技術(shù)的發(fā)展離不開納米測量技術(shù)。納米測量技術(shù)包括：納米級精度的尺寸和位移的測量，納米級表面形貌的測量以及納米級物理與化學(xué)特性的測量等。
　　 本文討論的是納米位移測量中的干涉條紋技術(shù)，主要研究在干涉納米位移測量中以CCD代替?zhèn)鹘y(tǒng)的光電探測器作為條紋拾取工具，通過對圖像相關(guān)運(yùn)算得到干涉光強(qiáng)相關(guān)曲線，再經(jīng)插補(bǔ)實(shí)現(xiàn)對條紋的細(xì)分及對納米位

2、移的精確測量。使用這個方法的優(yōu)點(diǎn)是CCD陣列與相關(guān)運(yùn)算可降低噪聲的影響。該方法也可以用于分析激光干涉納米光刻產(chǎn)生的納米結(jié)構(gòu)圖案的質(zhì)量(特征參數(shù)的均勻性)。
　　 本文設(shè)計了相關(guān)運(yùn)算和插補(bǔ)方法求相位差的方案，其中使用Matlab軟件對已知的兩干涉條紋實(shí)現(xiàn)相關(guān)運(yùn)算和插補(bǔ)。首先在已知的兩等間隔的干涉條紋圖形中，取兩相同大小的圖像塊分別做自相關(guān)和互相關(guān)，再經(jīng)插補(bǔ)的方法對條紋進(jìn)行細(xì)分。通過得到的曲線圖形和數(shù)值，分析并計算出相位差值。實(shí)驗(yàn)結(jié)