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1、晶圓是半導(dǎo)體工藝中制造集成電路的基本材料,在其背面減薄的磨削加工過(guò)程中,表面質(zhì)量的控制十分重要。表面質(zhì)量不好的晶圓會(huì)存在應(yīng)力集中、裂縫等隱患,在分割晶圓片時(shí),會(huì)導(dǎo)致晶圓崩裂的巨大損失。 表面粗糙度是衡量表面質(zhì)量的重要參數(shù),它是對(duì)加工表面所有微小間距和峰谷不平度的微觀幾何尺寸特征的綜合評(píng)價(jià),能夠反映表面應(yīng)力分布情況,以此判斷表面質(zhì)量的好壞。晶圓的表面粗糙度參數(shù)Ra(輪廓算術(shù)平均偏差)一般要求在0.01μm 至0.8μm 之間。
2、 本文在歸納和總結(jié)現(xiàn)有表面粗糙度理論及其測(cè)量方法的基礎(chǔ)上,提出了一種基于光散射原理在線測(cè)量晶圓表面質(zhì)量的方法,構(gòu)建了一種簡(jiǎn)單有效的機(jī)器視覺系統(tǒng)測(cè)量裝置。通過(guò)分析光散射強(qiáng)度分布圖像,提取出一些參數(shù)來(lái)表征Ra,達(dá)到檢測(cè)晶圓表面質(zhì)量的目的。文中給出了初步的實(shí)驗(yàn)結(jié)果,通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)樣塊實(shí)驗(yàn)確定了特征參數(shù)與表面粗糙度之間的關(guān)系,說(shuō)明此方案是可行的。 本文又進(jìn)一步引入基于統(tǒng)計(jì)學(xué)習(xí)理論的支持向量機(jī)方法,解決單一參數(shù)評(píng)價(jià)表面粗糙度方法的局限性,提
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