X射線超反射鏡的設(shè)計(jì)、制備與檢測(cè).pdf_第1頁(yè)
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1、近年來(lái),隨著多層膜技術(shù)的深入發(fā)展,多層膜反射鏡已在軟X射線天文望遠(yuǎn)鏡,軟X射線顯微術(shù),X射線投影光刻,同步輻射,等離子體診斷等許多領(lǐng)域內(nèi)成功的獲得了應(yīng)用.但這些多層膜基本上工作在極紫外和軟X射線波段.隨著科學(xué)技術(shù)發(fā)展的需要,人們迫切需要在硬X射線波段建立相應(yīng)的光學(xué)元件,拓展X射線光學(xué)元件的應(yīng)用范圍.有鑒與此,我們?cè)趪?guó)內(nèi)率先展開(kāi)了硬X射線波段光學(xué)元件--X射線超反射鏡的研究.本文從材料在硬X射線波段的光學(xué)特性出發(fā),討論了X射線超反射鏡的設(shè)

2、計(jì)方法:X射線多層膜的材料選擇以及膜層數(shù)的確定;X射線多層膜光學(xué)性能的模擬計(jì)算,討論了表界面粗糙度對(duì)反射鏡反射率的影響;討論了對(duì)寬帶(角度和帶寬)多層膜結(jié)構(gòu)進(jìn)行數(shù)值優(yōu)化的方法,采用理論解析法與數(shù)值優(yōu)化的方法相結(jié)合,成功設(shè)計(jì)出了工作在Cu的Kα處的C/W超反射鏡結(jié)構(gòu).從光學(xué)多層膜的制備方法出發(fā),本文選擇使用磁控濺射的方法作為X射線超反射鏡的制備.在原來(lái)的膜厚控制方法基礎(chǔ)上,在濺射速率定標(biāo)過(guò)程中,引入了誤差因子,提高了定標(biāo)精度;經(jīng)過(guò)大量的實(shí)

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