大尺寸單晶硅反射鏡超精密連續(xù)拋光和檢測(cè)的研究.pdf

1、隨著光學(xué)技術(shù)的發(fā)展，對(duì)光學(xué)元件的面形精度和表面粗糙度提出了越來越高的要求。同時(shí)隨著大型光學(xué)系統(tǒng)的開發(fā)和研制，對(duì)大尺寸高精度的光學(xué)元件需求越來越大。因此，對(duì)大尺寸精密光學(xué)元件的加工和檢測(cè)具有重要的意義。
　　 本文闡述了超精密光學(xué)元件加工及檢測(cè)的研究?jī)?nèi)容、目的、背景及國(guó)內(nèi)外研究概況。從理論和實(shí)驗(yàn)兩個(gè)方面對(duì)連續(xù)拋光技術(shù)進(jìn)行了研究。首先分析了連續(xù)拋光中各參量對(duì)拋光效果的影響，總結(jié)了連續(xù)拋光技術(shù)的主要問題，通過實(shí)驗(yàn)具體分析了拋光過程中拋

2、光盤硬度、拋光時(shí)間和溫升三個(gè)參量對(duì)拋光精度的影響，并結(jié)合單晶硅拋光特點(diǎn)，改良技術(shù)，編排合理的實(shí)驗(yàn)路線，連續(xù)拋光得到的單晶硅反射鏡基底平面PV值為0.403λ，表面粗糙度(RMS)為0.456nm，達(dá)到了超精密加工的要求。
　　 同時(shí)，介紹了超精密光學(xué)元件的各種檢測(cè)方法。針對(duì)高能激光系統(tǒng)中高反射率腔鏡的反射率測(cè)量問題，著重對(duì)光腔衰蕩技術(shù)進(jìn)行了概述和研究，介紹了光腔衰蕩法測(cè)反射率的原理，討論了一些主要誤差因素對(duì)測(cè)量精度的影響。并設(shè)計(jì)