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文檔簡(jiǎn)介
1、論文第一章從x射線光源、x射線光學(xué)元件和x射線多層膜的發(fā)展和研究狀況給出了簡(jiǎn)要的綜述. 第二章討論了理論設(shè)計(jì)和性能分析問題,將薄膜光學(xué)理論成功應(yīng)用于x射線多層膜的設(shè)計(jì)中,建立完善了設(shè)計(jì)程序和多層膜性能分析方法. 論文第三章介紹了多層膜沉積的工藝,給出了該研究小組獨(dú)特的轉(zhuǎn)速控厚法,這種方法在制備x射線多層膜中具有十分重要的意義.討論了利用多層膜的小角x射線衍射譜理論分析,導(dǎo)出了單層膜厚度和多層膜周期厚度的測(cè)量方法.論文根據(jù)對(duì)實(shí)際制備的多層
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