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1、天津大學(xué)碩士學(xué)位論文碳化硅單晶拋光片加工技術(shù)研究姓名:李寶珠申請(qǐng)學(xué)位級(jí)別:碩士專(zhuān)業(yè):電子與通信工程指導(dǎo)教師:李玲霞張志剛20081201ABSTRACTWiththedevelopmentofmodemscienceandtechnologythosewhocancontrolthenewgenerationofmaterialsatfirstcancontrolthenewgenerationofdevicesThethirdgene
2、rationwideenergybandgapsemiconductormaterialswhichhavethecharacteristicofwidegap,highbreakdownelectronicfieldstrength,highsaturatedelectrondriftvelocityhighthermalconductivitylowdielectricconstant,strongradiationresistan
3、tandgoodchemicalstabilityareverysuitedtomanufacturetheelectronicdeviceswhichhavethepropertiesofradiationresistanthighIfrequency,highpowerandhighdensityintegratedTherepresentativeofabovementionednewtypemateriaIsissiliconc
4、arbidesinglecrystalThemanufacturetechniqueofsiliconcarbidesinglecrystalconsistsofsinglecrystalgrowthandwaferingWaferingistheimportantbaseandessentialguarateefordevicesmanufacturebecausethematerialshavingtheexcellentprope
5、rtiespromotetheprogressofdevicesbythemeansofthesupportofsuccessfulandeffectivewaferingAslongaswesolvetheproblemsinthewaferingprocess,wecanmanufacturedeviceshavinggoodpropertiesFirstly,thispaperanalyzesthewaferingbarriers
6、whichareasfollowsofsiliconcarbidesinglecrystal:highhardness,highchemicalstabilitylackofwaferingmechanismresearch,characterizationequipmentsandtestingmethodsimperfectSecondly,itestablisheswaferingprocessschemeaccordingtot
7、heinherentpropertiesofsiliconcarbidesinglecrystalandthetraditionalsemiconductorwaferingmethodsCutting,lappingandpolishingwhicharethekeytechnicalbarriersmustbebrokenthroughtomanufactureperfectsiliconcarbidesinglecrystalwa
8、ferThispaperdiSCUssesprincipallyabovementionedkeytechnicalbarriersAftervariousparameterseffectingonprecessaccordingtomechanismareanalyzed,theparametersareoptimizedByanalyzingandtestingresearch,thispapercomestoaconclusion
9、asfollowsFirstlytheparametersgreatlyeffectingonqualityforcuttingprocessareasfollows:feedmethodandspeed,rotationSecondly,parametersmustbeoptimizedinlappingproceSSaSfollows:pressure,rotation,slurryconcentration,flowtimeThi
10、rdlytheparametersdecidingthequalityinpolishingprocessareasfollows:slurrypolishpad,pressure,temperature,rotationspeed,waferingtime,andSOonFinallythispaperprimarilyestablishesatestingmethodofcharacterizationsiliconcarbidew
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