MoS-,2-納米花的合成、表征和性能研究.pdf_第1頁
已閱讀1頁,還剩90頁未讀 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權,請進行舉報或認領

文檔簡介

1、本論文基于納米花狀MoS2的特殊形貌,以晶體自身的各向異性結構為控制低維納米材料合成的主因為指導,擬采用無模板,無催化劑和表面活性劑誘導的溶劑熱法,探索納米花狀結構MoS2的合成。在上述合成研究基礎上,進一步開展其功能雜化材料的合成、結構與性能研究,為特殊形貌納米結構材料合成、性能及應用打下理論和應用基礎。 論文的具體研究內(nèi)容為: (1) MoS2納米花的溶劑熱調(diào)控合成 利用溶劑熱合成法,MoS2晶體自身的層狀結

2、構,采用無模板,無催化劑和表面活性劑誘導的溶劑熱法,探索實現(xiàn)溫和的液相條件下MoS2納米花結構形貌的可控合成。詳細討論溶劑熱反應溫度、反應時間、硫源、溶劑體系等因素對納米花結構形成的影響,找到了形成納米花結構的最佳形成條件,分析討論其形成機理。 (2)納米MoS2/TiO2復合半導體的制備及其光催化性能研究@在上述合成研究基礎上,擬采用溶膠-凝膠法進行納米MoS2與Ti02的復合,制備具有可見光催化活性的納米復合半導體光催化材料

3、,詳細討論復合材料的制備工藝、MoS2復合量以及催化劑用量等對其光催化降解染料的性能的影響。 (3) L-賴氨酸/MoS2夾層復合材料的制備與表征 以納米花狀MoS2為主體,擬采用直接反應法一步合成了L-賴氨酸/MoS2夾層復合材料,采用TG、FT-IR及XRD對分析手段對復合材料進行結構表征。 (4) MoS2/PMMA納米復合材料力學行為的研究 以納米花狀MoS2作為減磨與增強劑,選用耐磨性差的聚甲基

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權或不適當內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論