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1、HF/HNO3/H2O 體系廣泛應(yīng)用于微電子加工及太陽(yáng)能制絨過(guò)程，硅在此體系中的反應(yīng)非常復(fù)雜而且反應(yīng)速度比較難控制。本文主要研究了硅在此體系中的反應(yīng)規(guī)律，并采用一種新型添加劑NH4F 用于控制反應(yīng)速度。首先，研究了硅片在不同的溫度下、不同配比的HF/HNO3酸溶液中腐蝕速度變化的規(guī)律。隨著HF：HNO3比例的增加，反應(yīng)速度先增加后減小。隨著溶液溫度的增加，反應(yīng)速度迅速上升，而且反應(yīng)中產(chǎn)生大量的熱，導(dǎo)致溶液反應(yīng)溫度迅速上升，反應(yīng)速度難以控
2、制。在了解整體反應(yīng)規(guī)律的基礎(chǔ)上，選出一組反應(yīng)速度較低的酸腐蝕溶液，加入水控制反應(yīng)速度，研究硅片在此體系中的腐蝕反應(yīng)過(guò)程，考察反應(yīng)速度，反應(yīng)后溫度以及反應(yīng)前后溶液中成分的變化。隨著腐蝕反應(yīng)的進(jìn)行，可分五個(gè)反應(yīng)階段，反應(yīng)速度隨時(shí)間的變化規(guī)律是腐蝕生成熱、體系與外界熱交換及溶液中氟離子濃度共同作用的結(jié)果。隨后，對(duì)整個(gè)腐蝕過(guò)程中硅片表面的形貌和反射率的變化進(jìn)行了理論分析。研究了一種新型的添加劑氟化銨對(duì)HF/HNO3/H2O 體系中硅片的腐蝕反應(yīng)
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