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文檔簡介
1、本文研究了紫外光子和高分子材料相互作用的機(jī)理和準(zhǔn)分子激光刻蝕聚合物材料的物理化學(xué)模型，用拉曼譜、XPS譜、SEM和三維形貌分析儀等測試手段研究了準(zhǔn)分子激光刻蝕PMMA和PTFE的機(jī)理，對準(zhǔn)分子激光刻蝕PMMA的工藝作了深入的研究并改善了刻蝕表面的質(zhì)量。 文中總結(jié)了準(zhǔn)分子激光和聚合物材料相互作用的特點、理化模型及其應(yīng)用的范圍，研究了光子和高分子材料相互作用過程中的物理和化學(xué)過程，諸如光子吸收、能級躍遷和化學(xué)鍵的斷裂等。用拉曼譜、X
2、PS譜等聚合物表面分析工具研究了PMMA和PTFE在刻蝕前后發(fā)生的化學(xué)結(jié)構(gòu)的變化；在原子和分子的水平上分析探討了兩種材料吸收紫外光子的機(jī)制與刻蝕過程中化學(xué)鍵斷裂的機(jī)理，從理論和實驗兩個方面揭示了248nm的準(zhǔn)分子激光和PMMA和PTFE材料相互作用的光化學(xué)反應(yīng)機(jī)理。針對248nm的準(zhǔn)分子激光刻蝕PMMA的工藝過程，采用三維形貌分析儀研究了刻蝕率、粗糙度隨激光入射能量和脈沖數(shù)的變化規(guī)律，找到了最佳的加工參數(shù)；針對刻蝕率隨入射能量增加而下降
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