2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
已閱讀1頁,還剩85頁未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡介

1、鈦酸鍶鋇(BaSrTiO3,BST)薄膜由于其高介電常數(shù)、低漏電流密度、低介電損耗和介電可調(diào)等特性,在隨機(jī)動(dòng)態(tài)存儲(chǔ)器、微波器件及紅外成像等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用前景,其制備工藝也是近十幾年來的研究熱點(diǎn)。射頻磁控濺射法可以制備高致密度均勻的薄膜,然而國內(nèi)用濺射法制備BST薄膜的研究相對(duì)較少。本文采用高真空低濺射速率的射頻磁控濺射設(shè)備在室溫下沉積BST納米薄膜,研究其制備工藝與性能的關(guān)系,并用微細(xì)加工方法制成了MIM(金屬-絕緣體-金屬)結(jié)構(gòu)的

2、電容,在直流偏壓下及微波頻率范圍內(nèi)測量其介電性能。 為進(jìn)一步研究BST薄膜在微波器件上的應(yīng)用,設(shè)計(jì)并研制了微波橋式電容式開關(guān),探索了開關(guān)的制備工藝,并成功研制了兩種結(jié)構(gòu)的微波開關(guān)。通過調(diào)整靶材成分和濺射氣氛控制沉積薄膜的化學(xué)成分,采用含過量Ba、Sr的靶材Ba0.8Sr0.8TiO3可以制得符合化學(xué)計(jì)量比的薄膜。研究發(fā)現(xiàn)在通氧氣氛濺射過程中,氧負(fù)離子對(duì)沉積薄膜有反濺射作用,使薄膜成分偏離了化學(xué)計(jì)量比,退火后,經(jīng)XRD分析薄膜內(nèi)存

3、在非鈣鈦礦相結(jié)構(gòu);在無氧氣氛濺射過程中,濺射薄膜成分符合化學(xué)計(jì)量比,經(jīng)750℃×30min氧氣保護(hù)熱處理后,獲得結(jié)晶性較好的鈣鈦礦相,在AFM和TFESEM下觀察到均勻的等軸晶。 應(yīng)用BST薄膜研制MIM結(jié)構(gòu)電容,應(yīng)用Agilent4156C半導(dǎo)體參數(shù)儀測量膜厚分別為200nm、150nm、90nm和50nm的BST薄膜的介電常數(shù)分別為1017、546、407 和73。用AgilentE4991A射頻阻抗材料分析儀在2GHz微波

4、頻率下, 測得90nm和50nmBST薄膜的電容值分別為1.42pF和0.62pF。在0.1MV/cm下測得對(duì)應(yīng)的漏電流密度分別為5.35×10-8 A/cm2和6×10-6 A/cm2。 微波橋式開關(guān)可應(yīng)用于移相器、天線,是微波器件中的基本單位。根據(jù)HFSS 軟件仿真結(jié)果,設(shè)計(jì)共面波導(dǎo)中心信號(hào)線為120μm,信號(hào)線與地線間隙為95μm,特征阻抗與50? 匹配。用Ansys 軟件模擬橋式開關(guān),發(fā)現(xiàn)開關(guān)的開啟電壓對(duì)橋膜的厚度敏感,

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論