已閱讀1頁，還剩44頁未讀， 繼續(xù)免費(fèi)閱讀
版權(quán)說明：本文檔由用戶提供并上傳，收益歸屬內(nèi)容提供方，若內(nèi)容存在侵權(quán)，請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡介
1、在基片下放置一塊永磁鐵，在濺射時(shí)，該外加磁場(chǎng)將對(duì)濺射空間的等離子體產(chǎn)生影響。利用這種方法，我們可以研究外加磁場(chǎng)對(duì)濺射粒子運(yùn)動(dòng)以及薄膜沉積的影響。研究中發(fā)現(xiàn)，在這種實(shí)驗(yàn)裝置下，所沉積的薄膜的表面宏觀形貌呈現(xiàn)規(guī)則的幾何圖形特征：膜的中央有一圓斑，而在圓斑的外圍有規(guī)則分布的環(huán)。而且這一中央圓斑的半徑隨著靶材和基片在磁鐵上方的高度而變化。進(jìn)一步，此種裝置制備的薄膜與磁控濺射制備的薄膜相比，其結(jié)晶明顯更好。在薄膜制備過程中，等離子區(qū)的輝光形貌也發(fā)
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明，都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等，如果需要附件，請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙，網(wǎng)頁內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽，若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲(chǔ)空間，僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理，對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯，并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容，請(qǐng)與我們聯(lián)系，我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 縱向磁場(chǎng)中濺射機(jī)理研究.pdf
- 基片下外加磁場(chǎng)磁控濺射方法的研究.pdf
- 磁控濺射鍍膜原理及工藝
- 磁控濺射鍍膜原理及工藝
- 管狀工件內(nèi)表面磁場(chǎng)輔助直流濺射鍍膜方法的研究.pdf
- 基于ANSYS的（非）平衡磁控濺射鍍膜機(jī)磁場(chǎng)模擬.pdf
- 等離子體束濺射鍍膜機(jī)研制及工作機(jī)理研究.pdf
- 外加磁場(chǎng)POS機(jī)理的PIC模擬和裝置研究.pdf
- 《真空濺射鍍膜》ppt課件
- 磁控濺射系統(tǒng)中磁場(chǎng)分布及膜厚均勻性研究.pdf
- 外加磁場(chǎng)下鐵磁性金屬材料的合成及生長機(jī)理研究.pdf
- 真空鍍膜系統(tǒng)中反應(yīng)濺射控制的分析與研究.pdf
- 外加磁場(chǎng)下RAFT聚合反應(yīng)動(dòng)力學(xué)及其機(jī)理研究.pdf
- 脈沖MIG焊接外加磁場(chǎng)控制研究.pdf
- 鋁合金輪轂表面磁控濺射鍍膜工藝的研究.pdf
- 濺射法鍍膜等離子體診斷的研究.pdf
- 平板基片濺射鍍膜的膜厚均勻性研究.pdf
- 離子束濺射源特性及其鍍膜工藝研究.pdf
- K575DX濺射鍍膜儀反應(yīng)濺射制備ZnO薄膜的研究.pdf
- 小圓平面靶磁控濺射鍍膜均勻性的研究.pdf
評(píng)論
0/150
提交評(píng)論