超高真空磁控濺射鍍膜機(jī)的使用

1、超高真空磁控濺射鍍膜機(jī)的使用摘要真空鍍膜技術(shù)作為一種產(chǎn)生特定膜層的技術(shù)，在現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)生活中有著廣泛的應(yīng)用。真空鍍膜技術(shù)有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。這里主要講一下由濺射鍍膜技術(shù)發(fā)展來的超高真空磁控濺射鍍膜機(jī)的使用的一些注意事項(xiàng)。關(guān)鍵詞：真空鍍膜；真空度；磁控濺射鍍膜鍍等對(duì)大面積的均勻性有特別苛刻要求的連續(xù)鍍膜場(chǎng)合)的首選方案。1影響鍍膜質(zhì)量的因素一般對(duì)鍍膜的質(zhì)量方面的要求有：厚度、均勻性、附著強(qiáng)度。厚度=沉積率時(shí)間。其中沉積率

2、是指單位時(shí)間內(nèi)形成有效鍍層的厚度，一般用μmh表示。沉積率的大小除與起輝電壓、工作氣壓等主要因素有關(guān)外，也受其他許多因素的影響。不同蒸發(fā)源在相同條件下的沉積率也是不同的，所以沉積率是有特定條件約束的，一般與理論值有較大差距，要通過大量試驗(yàn)來具體確定。鍍膜方式由于鍍膜原理的不同可分為很多種類，僅僅因?yàn)槎夹枰哒婵斩榷鴵碛薪y(tǒng)一名稱。所以對(duì)于不同原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個(gè)概念本身也會(huì)隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著

3、不同的意義。薄膜均勻性的概念：①.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看（也就是110波長(zhǎng)作為單位，約為100），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長(zhǎng)的110范圍內(nèi)，也就是說對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實(shí)現(xiàn)10甚至1的表面平整，是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術(shù)含量與技術(shù)瓶頸所在。②.化學(xué)組分上的均勻性：就是說在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于