真空鍍膜機(jī)控制系統(tǒng)研究.pdf

1、磁控濺射是應(yīng)用較為廣泛鍍膜的方法。磁控鍍膜設(shè)備具有鍍膜質(zhì)量高、工藝流程短、鍍膜過(guò)程真空度能靈活掌握等優(yōu)點(diǎn)。本文針對(duì)真空磁控濺射鍍膜設(shè)備控制系統(tǒng)為研究背景，對(duì)鍍膜設(shè)備控制系統(tǒng)進(jìn)行研究與設(shè)計(jì)。鍍膜計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)主要包括靶電源、抽真空、水冷設(shè)備等電氣控制系統(tǒng)，以及電流電壓、溫度、氣體流量、壓力等自動(dòng)測(cè)量系統(tǒng)。
　　本文對(duì)真空鍍膜設(shè)備和磁控濺射鍍膜工藝進(jìn)行了深入分析研究。根據(jù)鍍膜工作過(guò)程，分析靶極磁場(chǎng)的分布和離子動(dòng)態(tài)響應(yīng)電流過(guò)程。設(shè)計(jì)真空

2、鍍膜機(jī)控制系統(tǒng)的總體方案，選擇S7-300 PLC為控制系統(tǒng)的核心，實(shí)現(xiàn)對(duì)各個(gè)分系統(tǒng)的邏輯控制以及對(duì)現(xiàn)場(chǎng)采集來(lái)的數(shù)據(jù)進(jìn)行處理。采用iFIX組態(tài)軟件進(jìn)行上位機(jī)監(jiān)控系設(shè)計(jì)，并通過(guò)MPI與西門子PLC進(jìn)行通訊讀取現(xiàn)場(chǎng)數(shù)據(jù)，完成了對(duì)生產(chǎn)過(guò)程各項(xiàng)參數(shù)的動(dòng)態(tài)顯示和歷史數(shù)據(jù)的記錄，實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的遠(yuǎn)程操控。真空磁控濺射鍍膜機(jī)是靠惰性反應(yīng)氣體離子通過(guò)電場(chǎng)的作用以高速飛向靶材并且轟擊靶材，進(jìn)行濺射鍍膜。離子電流的動(dòng)態(tài)響應(yīng)過(guò)程是磁控濺射鍍膜工藝重要部分。由于濺射