蒸發(fā)法真空鍍膜

1、實(shí)驗(yàn)?zāi)康某醪搅私庹婵斟兡さ脑砗筒僮饕约氨∧ず穸鹊臏y量。?實(shí)驗(yàn)原理真空鍍膜是將固體材料置于真空室內(nèi)，在真空條件下，將固體材料加熱蒸發(fā)，蒸發(fā)出來的原子或分子能自由地彌布到容器的器壁上。當(dāng)把一些加工好的基板材料放在其中時(shí)，蒸發(fā)出來的原子或分子就會(huì)吸附在基板上逐漸形成一層薄膜。真空鍍膜有兩種方法一是蒸發(fā)一是濺射。本次實(shí)驗(yàn)采用蒸發(fā)方法。在真空中把制作薄膜的材料加熱蒸發(fā)，使其淀積在適當(dāng)?shù)谋砻嫔稀?真空系統(tǒng)(DM—300鍍膜機(jī))?蒸發(fā)源蒸發(fā)源的形狀

2、如下圖，大致有螺旋式(a)、籃式(b)、發(fā)叉式(c)和淺舟式(d)等?蒸發(fā)源選取原則1有良好的熱穩(wěn)定性，化學(xué)性質(zhì)不活潑，達(dá)到蒸發(fā)溫度時(shí)加熱器本身的蒸汽壓要足夠底。2蒸發(fā)源的熔點(diǎn)要高于被蒸發(fā)物的蒸發(fā)溫度。加熱器要有足夠大的熱容量。3蒸發(fā)物質(zhì)和蒸發(fā)源材料的互熔性必須很底，不易形成合金。4要求線圈狀蒸發(fā)源所用材料能與蒸發(fā)材料有良好的浸潤，有較大的表面張力。5對于不易制成絲狀、或蒸發(fā)材料與絲狀蒸發(fā)源的表面張力較小時(shí)，可采用舟狀蒸發(fā)源。?薄膜厚度