2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題（含答案詳解+作文范文）_第1頁
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文檔簡介

1、研究生學(xué)號(hào)：號(hào)：1042102034上海交通大學(xué)上海交通大學(xué)工程碩士學(xué)位論文193nm光阻對(duì)于絕緣體材料刻蝕工藝的挑戰(zhàn)ChallengesonOxideEtchwith193nmPhotesist2007年6月12日研究生研究生：王曄學(xué)院王曄學(xué)院：微電子學(xué)院：微電子學(xué)院指導(dǎo)教師指導(dǎo)教師：黃其煜：黃其煜ChallengesonOxideEtchwith193nmPhotesistAbstractWiththecontinuousdevel

2、opmentofVLSItechnology193nmphotesist(PR)hasbeenadoptedtomeetthescalingdownrequirementoffeaturesizes.HoweveritisdifficulttomaintainthecompletenessofPRstructuresduringoxideetchduetotheacteristicsof193nmPR.ObviousPRstriatio

3、nPRroughnessthepatternofPRdifficulttomaintainwascommonlyobserved.Thispaperanalysesthebaselineofthe193nm248nmPRfilmsthe193PRrougheningmechanismfindouttheionimpactplusradicalsactivatesPRstriation.Beseonthesefactsthispapaer

4、addresseswhichprocessfacts(totalpowerfrequenceratiogasratiototalflowprocesspressurechambertemperatureaddionalhydrogen)affectingthePRstriationpresentsourrecentwkonthestudyof193nmphotesistroughness（Profileimpact，sidewallro

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