冶金多晶硅的電學(xué)性能研究.pdf_第1頁(yè)
已閱讀1頁(yè),還剩88頁(yè)未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

1、太陽(yáng)能電池中使用的硅材料,不論其在工作時(shí)處于何種晶體類(lèi)型,其原材料都是高純多晶硅,純度在6N(99.9999%)以上。目前普遍認(rèn)為采用冶金法,使用廉價(jià)的工業(yè)硅制備太陽(yáng)能級(jí)多晶硅是大幅度降低太陽(yáng)能電池成本的途徑之一。本文中的冶金多晶硅即由冶金法制備的多晶硅材料。 太陽(yáng)能電池中使用的多晶硅除了對(duì)純度有一定要求之外,電阻率的高低也是最重要的性能參數(shù)之一,一般情況下,其數(shù)值應(yīng)在0.5-6Ω·cm之間,而且對(duì)于其均勻程度也有要求。由于雜質(zhì)

2、分布不勻,電阻率也不均勻。電阻率均勻性包括縱向電阻率均勻度、斷面電阻率均勻度和微區(qū)電阻率均勻度,它直接影響器件參數(shù)的一致性和成品率。電阻率是多晶硅材料最重要的參數(shù)之一,本文利用四探針電阻率測(cè)試儀、金相顯微鏡、掃描電鏡(SEM)、電感耦合等離子發(fā)射光譜儀(ICP)、能譜分析(EDS)、X射線衍射儀(XRD)等設(shè)備,從密度、晶粒尺寸、組織形態(tài)、化學(xué)成分、高溫?cái)U(kuò)散金屬雜質(zhì)(鐵、鈷、鎳、銅、錳、鋁、鋅)到多晶硅晶內(nèi)及晶界析出物等方面對(duì)冶金法制備

3、的多晶硅的電學(xué)性能進(jìn)行了研究。 研究結(jié)果表明:(1)不同熔煉方式導(dǎo)致多晶硅的密度不同,高密度的多晶硅材料禁帶較窄,故電阻率較小。(2)3-4N純度的多晶硅的電阻率對(duì)于不同的組織狀態(tài)十分敏感,電阻率隨晶粒度增加而減小,且沿柱狀晶方向電阻率較大;2N和6N多晶硅電阻率對(duì)于組織狀態(tài)并不是十分敏感。(3)金屬雜質(zhì)按照對(duì)多晶硅電阻率的影響可分為三類(lèi):一類(lèi)以鐵、鈷、鎳為代表,此類(lèi)雜質(zhì)含量超過(guò)固溶度以后形成析出相,在多晶硅高溫快速冷卻至室溫時(shí)

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論