

版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡(jiǎn)介
1、為克服傳統(tǒng)高α-Si3N4陶瓷制品制備方法存在的成本高、產(chǎn)量低等問(wèn)題,本文采用閃速燃燒氮化法合成的β-Si3N4為原料,氧化釔、氧化鋁和金屬鋁粉為燒結(jié)助劑,等靜壓成型,以常壓逆反應(yīng)燒結(jié)方法制備價(jià)格低廉,性能優(yōu)異的β-Si3N4陶瓷,大大擴(kuò)展了Si3N4陶瓷的應(yīng)用范圍。 逆反應(yīng)燒結(jié)是根據(jù)過(guò)程機(jī)理提出的一個(gè)新概念,其中心思想是通過(guò)Si3N4的氧化反應(yīng),犧牲部分Si3N4,生成Si-Al-O-N結(jié)合相;關(guān)鍵是通過(guò)調(diào)節(jié)氧分壓來(lái)控制Si3
2、N4的氧化反應(yīng)過(guò)程,既避免過(guò)度氧化,又能形成活化燒結(jié)。 論文的主要研究?jī)?nèi)容如下:利用熱力學(xué)分析討論常壓逆反應(yīng)燒結(jié)制備β-Si3N4陶瓷的可行性;比較了不同體系不同氧分壓條件下1550℃燒成的燒結(jié)制品性能,繼而確定了最佳的氧分壓條件和最佳的燒結(jié)體系;在此基礎(chǔ)上,研究了α-氧化鋁、氧化釔的加入量對(duì)材料燒結(jié)性能的影響;采用納米氧化鋁取代α-氧化鋁,于1600℃燒結(jié),研究了納米氧化鋁對(duì)材料燒結(jié)性能的影響;研究了1650℃燒成時(shí),金屬Al
3、粉的加入量對(duì)材料燒結(jié)性能的影響;通過(guò)1550℃、1600℃、1650℃的燒成實(shí)驗(yàn),研究了燒結(jié)溫度對(duì)材料燒結(jié)性能影響。 研究結(jié)果表明: 弱氧化氣氛下采用常壓逆反應(yīng)燒結(jié)方法制備β-Si3N4陶瓷是實(shí)際可行的,當(dāng)氧分壓為0.002MPa,氧化釔、氧化鋁和金屬Al粉復(fù)合加入時(shí),試樣獲得良好燒結(jié);1550℃燒結(jié)時(shí),α-氧化鋁的最佳加入量為w﹪=10,氧化釔的加入量越高,材料的性能越好;1600℃燒結(jié)時(shí),納米氧化鋁對(duì)試樣的常溫耐壓強(qiáng)
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 反應(yīng)燒結(jié)多孔Si-,3-N-,4-陶瓷的制備與研究.pdf
- 高取向Si-,3-N-,4-陶瓷-α-Si-,3-N-,4-晶須復(fù)相陶瓷的制備與性能.pdf
- 反應(yīng)燒結(jié)Si-,3-N-,4-透波材料的研究.pdf
- α-Si-,3-N-,4-陶瓷的液相燒結(jié)及其介電性能研究.pdf
- 反應(yīng)燒結(jié)制備Si-,3-N-,4-基復(fù)合材料.pdf
- 納米Si-,3-N-,4-基復(fù)合陶瓷的制備與性能研究.pdf
- 非晶納米Si-,3-N-,4-粉體液相燒結(jié)復(fù)相陶瓷的組織與性能.pdf
- 納米Si-,3-N-,4-基陶瓷復(fù)合材料的制備與性能研究.pdf
- 復(fù)合添加制備Si-,3-N-,4-多孔陶瓷材料的研究.pdf
- 新型Si-,3-N-,4-基陶瓷刀具材料的研制及其切削性能研究.pdf
- 反應(yīng)形成-熱壓燒結(jié)制備Si-,3-N-,4--MoSi-,2-陶瓷材料的工藝過(guò)程及性能研究.pdf
- 含有定向排列顆粒的Si-,3-N-,4-陶瓷的制備與表征.pdf
- 多孔網(wǎng)狀Si-,3-N-,4-陶瓷增強(qiáng)鋁基復(fù)合材料的制備.pdf
- Si-,3-N-,4-陶瓷二次PTLP連接過(guò)程與機(jī)理研究.pdf
- Si-,3-N-,4--BN可加工陶瓷的放電等離子燒結(jié)及其力學(xué)性能研究.pdf
- Si-,3-N-,4--SiC薄壁陶瓷管SHS工藝研究.pdf
- Si-,3-N-,4-(Si-,2-ON-,2-)-SiC復(fù)合材料中結(jié)合相的研究.pdf
- Si-,3-N-,4--TiC納米復(fù)合陶瓷刀具材料的研制及其性能研究.pdf
- 高劑量Si離子注入Si-,3-N-,4-薄膜引起的發(fā)光研究.pdf
- 藍(lán)寶石襯底上Si-,3-N-,4-膜系的制備工藝與性能研究.pdf
評(píng)論
0/150
提交評(píng)論