掃描電子顯微鏡 射線能譜儀 sem eds

1、掃描電子顯微鏡&X射線能譜儀應(yīng)用介紹掃描電子顯微鏡X射線能譜儀（SEM&EDS）理論依據(jù)是電子與物質(zhì)之間的相互作用。如圖1所示，當(dāng)一束高能的入射電子轟擊物質(zhì)表面時，被激發(fā)的區(qū)域?qū)a(chǎn)生二次電子、俄歇電子、特征射線和連續(xù)譜X射線、背散射電子、以及在可見、紫外、紅外光區(qū)域產(chǎn)生的電磁輻射。原則上講，利用電子和物質(zhì)的相互作用，可以獲取被測樣品本身的各種物理、化學(xué)性質(zhì)的信息，如形貌、組成、晶體結(jié)構(gòu)、電子結(jié)構(gòu)和內(nèi)部電場或磁場等等。SEMEDS正是根據(jù)

2、上述不同信息產(chǎn)生的機(jī)理，對二次電子、背散射電子的采集，可得到有關(guān)物質(zhì)微觀形貌的信息，對x射線的采集，可得到物質(zhì)化學(xué)成分的信息。應(yīng)用范圍1材料組織形貌觀察，如斷口顯微形貌觀察，鍍層表面形貌觀察，微米級鍍層厚度測量，粉體顆粒表面觀察，材料晶粒、晶界觀察等；2微區(qū)化學(xué)成分分析，利用電子束與物質(zhì)作用時產(chǎn)生的特征X射線，來提供樣品化學(xué)組成方面的信息，可定性、半定量檢測大部分元素（Be4PU94），可進(jìn)行表面污染物的分析；焊點(diǎn)、鍍層界面組織成分分析