α″-Fe-,16-N-,2-薄膜的結構、磁性和尺寸效應.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、采用射頻磁控濺射法制備了具有高飽和磁化強度的Fe-N薄膜.系統(tǒng)研究了氮氣分壓、基底溫度,濺射功率等制備工藝條件對Fe-N薄膜結構和磁性的影響,以及Fe-N薄膜的飽和磁化強度的尺寸效應.實驗結果表明在各種制備工藝條件中氮氣分壓和基底溫度是影響Fe-N薄膜結構和磁性的兩個最主要的因素.薄膜中各種Fe-N相的形成強烈的依賴于濺射過程中氮氣分壓和基底溫度的高低.當?shù)獨夥謮簽?×10<'-4>Torr,基底溫度為100-150℃時,最有利于高飽和

2、磁化強度α"-Fe<,16>N<,2>相的形成.在此條件下制備的Fe-N薄膜的飽和磁化強度,室溫下高達2179 emu/cc,遠高于純鐵的飽和磁化強度值1714 emu/cc.實驗結果表明,采用射頻磁控濺射法制備的具有高α"-Fe<,16>N<,2>相體積含量的Fe-N薄膜的飽和磁化強度隨著薄膜厚度的增加先增加,在薄膜厚度為300 nm處達到其最大值(2179 emu/cc),在300-570 nm厚度范圍內(nèi),飽和磁化強度幾乎保持其最大

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