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文檔簡介
1、上海交通大學(xué)碩士學(xué)位論文IDissertationSubmittedtoShanghaiJiaoTongUniversityftheDegreeofMasterCuinterconnectdualdameneetchprocessdevelopmentoptimizationbasedonmetalhardmaskintegrationapproachCidate：JiFengStudentID:1122102046Supervis：W
2、angYingAssistantSupervis:ZhengChunshengAcademicDegreeAppliedf：MasterofEngineeringSpeciality：IntegratedCircuitEngineeringAffiliation：SchoolofMicroelectronicsDateofDefence：05.2016DegreeConferringInstitution：ShanghaiJiaoTon
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