磁光材料的制備和性能研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本文對采用磁控濺射制備FbFeCo薄膜的工藝進行了詳細研究，制備了TbFeCo系列薄膜，分析了TbFeCo薄膜的生長機理。 首先利用XRD、EDAX對樣品結(jié)構(gòu)進行了表征，結(jié)果表明Tb的濺射率相對較高，薄膜中Tb原子含量超過靶中Tb原子的含量。用AFM、SEM對樣品的表面進行觀察。結(jié)果表明，濺射時間、濺射功率和工作氣壓是改善磁控濺射成膜的關(guān)鍵。 其次采用橢圓偏振光譜儀研究了所制備TbFeCo薄膜的光學性質(zhì)，研究了Ag保護層

2、厚度對薄膜光學性質(zhì)的影響，結(jié)果表明，該磁光薄膜對紅外光有較大的吸收，對紫外光吸收較??；測量結(jié)果與Drude模型是相吻合的；同時把有無保護層的兩種薄膜的光譜進行了比較，結(jié)果表明，有保護層的磁光薄膜Ag/TbFeCo/Si的光譜更接近于保護層的光譜；原因是Ag的反射率很高，其透射率相對較低，因此到達第二層介質(zhì)TbFeCo的光較少。 最后利用磁光克爾系統(tǒng)和VSM測量了樣品TbFeCo/Si和Ag/TbFeCo/Si的Kerr效應(yīng)、磁性

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