CdCo系薄膜的制備及其磁光性能研究.pdf

1、本文運(yùn)用射頻磁控濺射的方法在玻璃基片上制備了一系列的GdCo單層膜和GdCo/TbFeCo雙層膜。研究了濺射工藝參數(shù)值對(duì)GdCo單層膜和GdCo/TbFeCo雙層膜的磁光性能的影響，對(duì)比了GdCo單層膜和GdCo/TbFeCo雙層膜的磁光性能。
　　 在研究過程中，利用Ambious XP—2型臺(tái)階儀測(cè)定所制備薄膜樣品的厚度，運(yùn)用磁光特性測(cè)試儀測(cè)量薄膜的磁光性能，使用振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì)(VSM)來測(cè)量所制備薄膜樣品的磁性能，利用X射

2、線衍射儀對(duì)薄膜樣品進(jìn)行物相分析。經(jīng)過X射線衍射儀(XRD)對(duì)薄膜樣品進(jìn)行分析研究結(jié)果發(fā)現(xiàn)：所制備出的一系列GdCo薄膜和GdCo/TbFeCo雙層膜的衍射圖都沒有明顯的衍射峰，表明這兩種薄膜都是非晶態(tài)的。運(yùn)用VSM測(cè)得GdCo單層膜的飽和磁矩都在0．007emu附近波動(dòng)。濺射氣壓對(duì)GdCo單層膜的磁性能有一定的影響。隨著濺射氣壓的增大，GdCo單層膜的克爾角和矯頑力都會(huì)變化。厚度為100 nm的GdCo單層膜的磁性能優(yōu)于厚度為90 nm

3、的GdCo單層膜的磁性能。另外，退火后GdCo單層膜的表面應(yīng)力減小了，但是薄膜仍然為非晶結(jié)構(gòu)，而且薄膜的矯頑力和克爾角也都沒有得到明顯的提高。總的來說，對(duì)制備參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化以后，GdCo單層膜的矯頑力和克爾角仍然比較小，不適合用作高密度磁記錄載體。
　　 經(jīng)過研究還發(fā)現(xiàn)，GdCo/frbFeCo雙層膜的磁光性能普遍優(yōu)于GdCo單層膜的磁光性能。運(yùn)用控制變量法研究發(fā)現(xiàn)，基片溫度、濺射氣壓、靶基距、薄膜厚度、濺射功率的增加，薄膜的矯頑