雙摻鎂鉺鈮酸鋰晶體的生長及其性能研究.pdf

1、本論文中采用提拉法生長了一系列Mg：Er：LiNbO3晶體，研究了晶體的生長工藝、結構及光學性能。 在晶體生長部分中，對晶體生長的工藝參數進行了探索與優(yōu)化，確定了合理的生長工藝，生長出了質量較好的晶體，并對生長出的晶體進行了極化、切割、拋光等處理。 X-射線衍射結果表明，雖然晶胞體積有所改變，但Mg：Er：LiNbO3晶體仍然保持LiNbO3晶體原有的晶格結構，說明摻入的Mg和Er是以取代Li或Nb的方式進入晶體。通過紅

2、外光譜和紫外可見吸收光譜的分析，研究了Mg在摻雜LiNbO3晶體中的摻雜閾值濃度及其占位情況，提出了Mg在晶體中的占位模型：Mg在摻雜LiNbO3晶體中的閾值濃度為4～5mol％之間，在摻Mg量低于閾值濃度時，Mg離子取代反位鈮NbLi；高于閾值濃度時，Mg離子同時進入正常的Nb位和Li位。 用直接觀測光斑畸變法測試了Mg：Er：LiNbO3晶體的抗光損傷能力，結果表明其抗光損傷能力比純LiNbO3晶體高2個數量級以上，優(yōu)于單摻