含咔唑基的酰腙類希夫堿的合成與光譜性能研究.pdf

1、酰腙是一類含有酰胺鍵(-CONH-)的特殊希夫堿。由于其具有較強的配位能力、多樣的配位形式、廣泛的醫(yī)藥生物活性和非線性光學性質等特點，引起了國內(nèi)外科技工作者的研究興趣，其成果在分析、催化和光電材料等方面得到了廣泛應用。本文設計并合成了22個新的含咔唑基的酰腙類希夫堿，其研究工作分為以下三個部分： (1)合成了4-(N-咔唑甲基)苯甲酰肼和N-咔唑乙酰肼兩種酰肼，再將其分別與不同的取代苯甲醛縮合，制備出了18個含咔唑基的酰腙類希夫

2、堿，其中有14個未見文獻報道。通過核磁氫譜、質譜、紅外光譜和元素分析等方法對希夫堿及其中間體的結構進行了表征。探索了合成4-(N-咔唑甲基)苯甲酸和含咔唑基的酰腙類希夫堿的最佳反應條件。實驗表明：采用無水乙醇-冰醋酸溶劑體系合成希夫堿，反應條件溫和，產(chǎn)物易于提純；當乙醇與冰醋酸的體積比為10:0.5時，大部分希夫堿的收率可達到最佳(85％以上)。 (2)在第一部分工作的基礎上，對所合成的18個酰腙類希夫堿進行了紫外光譜、熒光光譜

3、和熒光量子產(chǎn)率的研究。結果表明：供電子基團使希夫堿的最大紫外吸收峰波長發(fā)生不同程度的紅移，吸電子基團對其影響不大。吸電子基團與供電子基團的引入均使希夫堿最大熒光發(fā)射波長發(fā)生不同程度的紅移。引入供電子基團(-CH3，-OCH3)，使希夫堿熒光強度增大、熒光量子效率顯著提高；4-位和2-位供電子基團(-OH)的引入，使希夫堿最大熒光發(fā)射波長發(fā)生顯著紅移；2-位羥基的引入使希夫堿8f和9f熒光強度增強，熒光量子效率顯著提高；4-位羥基對希夫堿

4、9h的熒光光譜影響不大，卻使希夫堿8h的熒光強度下降，熒光量子效率降為無取代基希夫堿的1/3左右。吸電子基團的引入易引起熒光淬滅，使希夫堿熒光量子效率降低。在DMSO和無水乙醇中，在極稀的濃度范圍內(nèi)希夫堿8f的熒光強度與濃度呈線性關系，但當希夫堿8f的濃度較高時，其熒光強度隨著濃度的增大而下降。在無水乙醇中，Cu2+對希夫堿8f有較強的熒光增敏性。 (3)合成了4個5-(4’-取代苯偶氮)水楊醛偶氮化合物，再將其分別與第一部分合