TFT-LCD點缺陷的分析與研究.pdf

1、TFT-LCD作為一個新興的高科技行業(yè)，具有全面取代目前CRT顯示器的趨勢。目前存在的問題是生產(chǎn)流程復雜，生產(chǎn)過程中不良過高造成的成本增加問題。主要的不良是一些顯示缺陷問題，其中點缺陷最為嚴重。通過研究各個制程環(huán)節(jié)，分析出其中可能產(chǎn)生的缺陷。并著重介紹了點缺陷的產(chǎn)生及其點缺陷的檢驗方式與修復手法，同時對修復手法有提出獨到的改善措施，利用切割ITO膜來達到修復的目的，使得修復的成功率從45％提高到80％。 點缺陷的形成主要在Arr

2、ay段和Cell前段，Array段在鍍膜的時候會有一些殘留物，這些殘留物如果導電或者面積太大，就造成了它附近點的短路或者斷路，這個點就成了亮點或是暗點。敘述了TFT-LCD的制程過程，以及制程中的設備參數(shù)等描述，重點介紹了Array段鍍膜與Cell段灌液晶兩個制程，并分析了這兩個制程會導致點缺陷的原因，從而通過增加檢驗站，或者調(diào)整合適的參數(shù)來提高良率，達到降低點缺陷的目的。 實際生產(chǎn)中還是存在5％～8％的點缺陷，對這些不可避免的

3、不良做了進一步的研究，研究表明它們是可以通過鐳射被修復或者被淡化的。因此生產(chǎn)中每年大約1000萬美金左右的點缺陷不良可以重新修復成為良品。接下來對于點缺陷的檢驗機臺及其修復機臺作了進一步的研究表明不同切割焦距與切割能量對于修復不同的缺陷都有不同的效果。采用兩個試驗方案，可以解決生產(chǎn)中鐳射修復常遇到的兩個問題——最佳焦距應該選擇5u或者6u，最佳的切割Gate能量值應該選擇7％，最佳的切割Source能量值應該選擇6％，最佳的切割Weld