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1、本文采用恒電流密度氧化法,控制電流密度,氧化時(shí)間,及氧化溫度在不同電解液中制備了不同孔徑高度有序的AAO模板。隨著電流密度的增大,孔徑提高較大,厚度增大;隨著氧化時(shí)間的延長(zhǎng),孔徑會(huì)有小范圍的提高,但不明顯,但孔的有序程度會(huì)有所提高,膜的厚度在一定范圍內(nèi),也會(huì)有較大提高,但時(shí)間提高到到一定程度時(shí),膜厚將不再增長(zhǎng)發(fā)生溶解。恒流一定值后模板的有序性會(huì)下降,但總體效果還是不錯(cuò)的,厚度大,有序性高。確定了最佳氧化條件。最佳氧化條件為:在0.3mo
2、l/L草酸中恒流8mA氧化。 此外,還分別以鋁片,玻璃片和AAO模板為基底,使用BP-212型紫外正性光刻膠,進(jìn)行光刻工藝條件的研究,找到了在本實(shí)驗(yàn)條件下的穩(wěn)定光刻工藝。最佳的光刻工藝條件為:勻膠量為0.2ml,勻膠低速轉(zhuǎn)速為600r/min,時(shí)間為5s,高速轉(zhuǎn)速為2500r/min,時(shí)間為30s。前烘時(shí)間為15min,曝光時(shí)間為50s,顯影時(shí)間為20s,后烘時(shí)間15min。 采用紫外線光刻技術(shù)在鋁片上生成了預(yù)設(shè)圖案,利
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