超高真空磁控濺射鍍膜機的使用

1、超高真空磁控濺射鍍膜機的使用摘要真空鍍膜技術作為一種產生特定膜層的技術，在現實生產生活中有著廣泛的應用。真空鍍膜技術有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。這里主要講一下由濺射鍍膜技術發(fā)展來的超高真空磁控濺射鍍膜機的使用的一些注意事項。關鍵詞：真空鍍膜；真空度；磁控濺射鍍膜鍍等對大面積的均勻性有特別苛刻要求的連續(xù)鍍膜場合)的首選方案。1影響鍍膜質量的因素一般對鍍膜的質量方面的要求有：厚度、均勻性、附著強度。厚度=沉積率時間。其中沉積率

2、是指單位時間內形成有效鍍層的厚度，一般用μmh表示。沉積率的大小除與起輝電壓、工作氣壓等主要因素有關外，也受其他許多因素的影響。不同蒸發(fā)源在相同條件下的沉積率也是不同的，所以沉積率是有特定條件約束的，一般與理論值有較大差距，要通過大量試驗來具體確定。鍍膜方式由于鍍膜原理的不同可分為很多種類，僅僅因為都需要高真空度而擁有統一名稱。所以對于不同原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著

3、不同的意義。薄膜均勻性的概念：①.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看（也就是110波長作為單位，約為100），真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的110范圍內，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現10甚至1的表面平整，是現在真空鍍膜中主要的技術含量與技術瓶頸所在。②.化學組分上的均勻性：就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于