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1、碩士學(xué)位論文黑硅太陽(yáng)能電池制備與表面鈍化的研究T1preparationandsurfacepassivationofblacksiliconsohllepreparationansuriaceDassivationolblacsiliconsolarIcells學(xué)號(hào)J’,‘21102089完成日期:2Q!壘叢鯉大連理工大學(xué)DalianUniversityofTechnology大連理工大學(xué)碩士學(xué)位論文摘要對(duì)于太陽(yáng)能電池,日常生活中已不
2、再陌生,而太陽(yáng)能電池中,硅基太陽(yáng)能電池更是被廣泛關(guān)注。目前,提高硅基太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)換效率成為其發(fā)展的首要目標(biāo)。本文中,我們使用了黑硅制備以及表面鈍化的方法來(lái)提高太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)換效率。黑硅的制備是一種不使用減反膜就可以降低入射光反射率的方法,其具有成本低的優(yōu)點(diǎn)。同時(shí),我們使用表面鈍化的方法降低材料表面復(fù)合率,從而提高太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)化效率。黑硅制備對(duì)于硅基太陽(yáng)能電池很有意義,我們通過(guò)銀納米粒子輔助刻蝕制備了黑硅,并在此基礎(chǔ)上制備了黑硅太陽(yáng)能
3、電池,黑硅的制備降低了入射光的反射率使得太陽(yáng)能電池對(duì)入射光的吸收率有很大的提高,在波長(zhǎng)為350nm到1100nm的范圍內(nèi),黑硅納米結(jié)構(gòu)硅片的反射率明顯低于金字塔制絨硅片。同時(shí),為了調(diào)控黑硅納米線的結(jié)構(gòu),我們采用的KOH溶液再刻蝕法,即對(duì)已刻蝕成納米結(jié)構(gòu)的硅片,用KOH溶液進(jìn)行再刻蝕,使得納米線長(zhǎng)度更短,直徑更小。實(shí)驗(yàn)可知,經(jīng)過(guò)KOH溶液再刻蝕的硅片制成的黑硅太陽(yáng)能電池與普通的黑硅太陽(yáng)能電池相比,反射率變高,但由于表面積的減小使得表面復(fù)合
4、速率降低,最終測(cè)得的轉(zhuǎn)化效率要高于普通的黑硅太陽(yáng)能電池。經(jīng)過(guò)KOH溶液處理的黑硅片制成的太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)換效率為168%而普通黑硅太陽(yáng)能電池的效率為165%。黑硅的制備使得入射光的反射率降低從而提高了太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)換效率,但同時(shí)由于表面積的增大使得表面復(fù)合率增高,所以我們采用了表面鈍化的方法來(lái)降低表面復(fù)合率。在對(duì)于太陽(yáng)能電池表面鈍化的研究中,我們使用了不同材料對(duì)其進(jìn)行表面鈍化,進(jìn)而分析不同鈍化膜對(duì)于黑硅太陽(yáng)能電池的影響。由實(shí)驗(yàn)可知,沒(méi)有經(jīng)
5、過(guò)鈍化處理的黑硅太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)換效率是129%。經(jīng)過(guò)Si02和SiNx:H的鈍化處理,黑硅太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)換效率分別提高到160%和164%。相較于長(zhǎng)有單層鈍化膜的黑硅太陽(yáng)能電池,經(jīng)過(guò)Si02/SiNx:H疊層鈍化處理的黑硅太陽(yáng)能電池效率最高達(dá)到了168%。對(duì)于內(nèi)量子效率的研究表明,Si02/SiNx:H疊層鈍化可降低表面摻雜濃度從而抑制俄歇復(fù)合,并且SiNx:H層抑制了黑硅太陽(yáng)能電池的復(fù)合中心復(fù)合。關(guān)鍵詞:黑硅;太陽(yáng)能電池;俄歇復(fù)合;鈍
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