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1、相變存儲(chǔ)器被認(rèn)為是最具有競(jìng)爭(zhēng)力的新型半導(dǎo)體存儲(chǔ)器之一,隨著存儲(chǔ)器密度和操作速度的提升,擦寫(xiě)過(guò)程累積的熱量會(huì)導(dǎo)致器件內(nèi)部溫度的變化,進(jìn)而影響器件的性能。實(shí)驗(yàn)已經(jīng)證明,連續(xù)脈沖作用下熱累積效應(yīng)是存在的。利用熱累積效應(yīng),雙脈沖調(diào)制實(shí)現(xiàn)了相變存儲(chǔ)單元的多值存儲(chǔ)。而脈沖間隔器件內(nèi)部熱量的擴(kuò)散直接影響了器件內(nèi)部熱量的累積和溫度的變化。所以對(duì)相變單元熱擴(kuò)散熱性的研究不僅對(duì)相變單元的正常工作有促進(jìn)作用,同時(shí)也有利于實(shí)現(xiàn)相變存儲(chǔ)器單元速率的提升和更廣泛的
2、引用。本文的內(nèi)容就是通過(guò)實(shí)驗(yàn)和仿真的方法研究熱擴(kuò)散過(guò)程,主要是研究熱擴(kuò)散相關(guān)參數(shù)的計(jì)算方法,并設(shè)計(jì)一種相變存儲(chǔ)器單元的測(cè)量裝置。
本文首先提出一種相變存儲(chǔ)器單元的簡(jiǎn)化模型,用于描述脈沖序列作用下相變層由晶態(tài)逐漸轉(zhuǎn)變?yōu)榉蔷Щ^(guò)程。然后,使用4200-SCS半導(dǎo)體特性測(cè)試儀對(duì)相變存儲(chǔ)器單元施加 RESET脈沖序列,隨著脈沖個(gè)數(shù)的增加,單元電阻逐漸增大。依據(jù)單元的簡(jiǎn)化模型和溫度計(jì)算公式推導(dǎo)出熱容和熱阻的求取公式。接著,利用HSPIC
3、E模型,在考慮熱累積效應(yīng)的影響的條件下,仿真單元電阻-脈沖個(gè)數(shù)曲線,并分別研究熱容和累積溫度的變化對(duì)單元電阻的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果和仿真結(jié)果很接近,表明脈沖序列作用下,單元電阻逐漸增加時(shí),相變存儲(chǔ)器單元內(nèi)部累積溫度會(huì)呈現(xiàn)先快速升高后緩慢升高的變化趨勢(shì),近似符合對(duì)數(shù)函數(shù)曲線,并且隨著脈沖序列中的脈沖數(shù)目增加,相變存儲(chǔ)單元熱阻緩慢增加,熱容逐漸減小。
本文還基于DSP芯片設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)了一套相變單元的脈沖I-V測(cè)試系統(tǒng),使用該系統(tǒng)測(cè)量得到的G
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