晶體硅中光衰減缺陷及其再生態(tài)的研究.pdf_第1頁
已閱讀1頁,還剩97頁未讀 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認領(lǐng)

文檔簡介

1、太陽能光伏發(fā)電作為現(xiàn)代新興發(fā)電方式之一,以其環(huán)境友好、可再生等特點備受各國政府的青睞。其中,晶體硅太陽電池由于具有穩(wěn)定性好、效率高等特點,成為當前光伏市場的主流產(chǎn)品。然而商業(yè)p型晶體硅太陽電池片由于在光照條件下電池片體內(nèi)會形成高復(fù)合活性中心的硼氧復(fù)合體從而導(dǎo)致太陽電池效率衰減,這一現(xiàn)象已嚴重限制了產(chǎn)業(yè)進一步發(fā)展。雖然光致效率衰減現(xiàn)象早在1973年就被科學(xué)家發(fā)現(xiàn),但時至至今,科學(xué)家們?nèi)匀粺o法知曉其內(nèi)在機理,因此,繼續(xù)深入的研究硅材料中光致

2、衰減現(xiàn)象的性質(zhì)和機理具有非常重要的科學(xué)研究和實際應(yīng)用意義。
  本文系統(tǒng)研究了晶體硅中的光衰減現(xiàn)象以及第三態(tài)回復(fù)的基本性質(zhì)和熱力學(xué)動力學(xué)行為,同時研究了鍺摻雜及氫濃度對晶體硅中光衰減的抑制作用及其抑制機制,取得的主要創(chuàng)新結(jié)果如下:
  (1)普通p型硅片、硼磷補償p型硅片及硼磷補償n型硅片中都會發(fā)生光致效率衰減現(xiàn)象。普通p型硅片、硼磷補償p型硅片由于空穴濃度過高,其在高溫加熱過程中不利于發(fā)生第三態(tài)回復(fù)過程,反而會形成退火過程

3、和衰減過程的動態(tài)平衡,溫度越高越利于退火過程。硼磷補償n型硅片中存在第三態(tài)回復(fù),生成激活能為0.64 eV,激活能與硼濃度無關(guān)。硼磷補償n型硅片首次發(fā)現(xiàn)了再衰減過程,再衰減過程激活能為0.46 eV,樣品在適當?shù)臏囟群凸庹障驴蓪崿F(xiàn)R-D循環(huán)。
  (2)硅片中摻鍺可以有效地抑制硼氧復(fù)合體的生成速率,隨著摻鍺濃度的提高這種抑制效果越加的明顯,當摻鍺濃度達到1021 cm-3數(shù)量級時,摻鍺硅片中的硼氧復(fù)合體將會完全的被抑制;摻鍺可以有

4、效地降低硼氧復(fù)合體的飽和濃度。隨著摻鍺濃度的增加,硼氧復(fù)合體的飽和濃度減少的越多,當摻鍺濃度達到1021cm-3數(shù)量級時,光照下將完全無法形成硼氧復(fù)合體;摻鍺可以有效地降低雙氧的濃度。且與已有數(shù)據(jù)比較,隨著摻鍺濃度的增加,雙氧濃度降低的數(shù)值也就越大,而在高摻鍺的樣品中雙氧則無法形成。
  (3)硅片中摻氫可以有效地抑制硼氧復(fù)合體的生成速率,隨著氫濃度的提高這種抑制效果越加的明顯;摻氫會抑制硼氧復(fù)合體的消除。隨著摻氫濃度的增加,硼氧

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論